[发明专利]具有多个靶体和磁体的沉积室的PVD装置和方法

权利要求书

1.一种膜沉积系统，包括：

沉积室，具有其中包括多个靶体组件的靶体布置，每个所述靶体组件都包括靶体构件以及专用磁体或多个专用磁体，每个所述靶体组件都具有可单独控制的电源；以及

工作台，用于在其上接收工件。

2.根据权利要求1所述的膜沉积系统，其中，所述多个靶体组件包括中心靶体构件和围绕所述中心靶体构件的环形靶体构件。

3.根据权利要求1所述的膜沉积系统，其中，所述多个靶体组件包括同心布置的所述靶体构件。

4.根据权利要求1所述的膜沉积系统，其中，每个所述靶体构件可以由相同或是不同的材料形成。

5.根据权利要求1所述的膜沉积系统，其中，每个所述专用磁体或多个专用磁体相对于相关的所述靶体组件的相关的所述靶体构件旋转。

6.根据权利要求1所述的膜沉积系统，其中，所述多个靶体组件包括在中心设置的第一靶体组件、围绕所述第一靶体组件的环形第二靶体组件以及围绕所述第二靶体组件的环形第三靶体组件，并且其中，所述多个靶体组件中的每一个都适合于在所述工作台上设置的工件上沉积相关的靶体材料。

7.根据权利要求1所述的膜沉积系统，其中，配置所述多个靶体组件，使得所述靶体构件适合于在所述工作台上设置的工件的不同沉积区域上沉积材料。

8.一种采用物理汽相沉积PVD在衬底上沉积膜的方法，所述方法包括：

提供由第一材料形成的第一靶体和由第二材料形成的第二靶体；

通过利用形成初始功率比率的第一功率和第二功率，首先对所述第一靶体施加所述第一功率以及对所述第二靶体施加所述第二功率来沉积膜；以及

通过使用不同的功率比率对所述第一靶体和所述第二靶体提供功率来继续沉积所述膜。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述沉积膜产生具有第一组成的所述膜的第一厚度，所述第一组成具有第一比率的所述第一靶体材料和所述第二靶体材料，以及所述继续沉积产生具有第二组成的所述膜的第二厚度，所述第二组成具有第二比率的所述第一靶体材料和所述第二靶体材料。

10.一种采用物理汽相沉积(PVD)在衬底上沉积膜的方法，所述方法包括：

提供沉积工具，所述沉积工具包括至少一个沉积室，所述至少一个沉积室具有多个沉积靶体组件，每个沉积靶体组件都包括靶体构件以及至少一个相关磁体；以及

通过利用第一DC功率对所述多个靶体组件中的第一靶体组件供电以及通过利用第二DC功率对所述多个靶体组件中的第二靶体组件供电，采用物理汽相沉积沉积膜，所述靶体构件由不同的材料形成。