[发明专利]透明电极元件、信息输入设备和电子装置无效
申请号: | 201210056161.3 | 申请日: | 2012-03-01 |
公开(公告)号: | CN102682665A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 高桥秀俊;水野干久;石渡正之 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;G06F3/041 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 电极 元件 信息 输入 设备 电子 装置 | ||
技术领域
本发明涉及透明电极元件、信息输入设备和电子装置,更具体地涉及具有图案化电极区域的透明电极元件、使用透明元件的信息输入设备和在显示面板中设置透明电极元件的电子装置。
背景技术
设置在显示面板的显示表面一侧上的信息输入设备(所谓的触摸板)具有沿X方向延伸的电极图案和沿Y方向延伸的电极图案以绝缘状态布置在透明衬底上的构造。使用由金属氧化物(例如,氧化铟锡(ITO))制成的透明导电膜或中间集成有金属纳米线的透明导电膜来形成电极图案。
在具有上述构造的信息输入设备中,当使用透明导电膜形成的电极图案的电阻值设置为低时,需要给定的膜厚度。为此,因为当从外侧观察信息输入设备是容易观察到电极图案,所以在具有信息输入设备的显示面板上显示的显示图案的可见性会下降。
因此,提出了这样的构造:设置在电极图案之间处于浮动状态的伪电极,以抑制电极图案的对比度,从而不会注意到存在电极图案(例如,参见日本未审查专利申请公开No.2008-129708和日本未审查专利申请公开No.2010-2958)。
发明内容
但是,即使在设置有上述伪电极的信息输入设备中,也很难完全不注意到电极图案,因为去除了透明导电膜的区域沿着电极图案连续地形成于电极图案和伪电极之间。
期望提供能够将由透明导电膜形成的电极区域的可见性减小到限值的透明电极元件和信息输入设备。此外,期望提供能够在显示面板的显示表面一侧上对由透明导电膜形成的电极区域进行图案化的构造中实现高分辨率显示的电子装置。
根据本发明的实施例,提供透明电极元件,其包括:基部衬底;形成于基部衬底上的透明导电膜;使用透明导电膜形成的电极区域。该透明电极元件还包括绝缘区域,该绝缘区域作为与电极区域相邻的区域,在绝缘区域中上述透明导电膜被在随机方向上延伸的沟槽图案分隔成独立岛状。
根据本发明的其他实施例,提供信息输入设备和电子装置,该信息输入设备包括具有上述构造的透明电极元件,在该电子装置中具有上述构造的透明电极元件设置在显示面板的显示表面一侧上。
通过在与电极区域相邻的绝缘区域中设置被分隔成独立岛状的透明导电膜,将电极区域和绝缘区域的对比度抑制为小。具体地,通过在随机方向上延伸的沟槽图案来分隔绝缘区域中的透明导电膜。因此,可以防止产生云纹,在电极区域和绝缘区域之间的边界中沿着电极区域形成连续沟槽图案,在视觉上注意不到电极区域的轮廓。此外,因为通过沟槽图案的宽度在宽广范围中调节透明导电膜在绝缘区域中的覆盖率,所以可以形成具有高覆盖率的透明导电膜的绝缘区域。因此,在电极区域和绝缘区域中可以使得对比度小。
根据本发明的实施例,在包括使用透明导电膜形成的电极区域的透明电极元件和信息输入设备中,通过将电极区域和绝缘区域的对比度抑制为小,可以将电极区域的可见性降低到限值。此外,在使用透明导电膜所形成的电极区域被图案化地形成于显示面板的显示表面一侧上的电子设备中,防止显示面板的显示特性受到区域的影响,从而实现高分辨率显示。
附图说明
图1是示出根据第一实施例的透明电极元件的构造的俯视图;
图2A和2B分别是示出根据第一实施例的透明电极元件的构造中的主要单元的放大俯视图和截面图;
图3A和3B是示出根据第二实施例的透明电极元件的构造中的主要单元的放大俯视图和截面图;
图4是用于描述产生随机图案的算法的示意图(第一部分);
图5是用于描述产生随机图案的算法的流程图(第一部分);
图6是用于描述产生随机图案的算法的示意图(第二部分);
图7是用于描述产生随机图案的算法的流程图(第二部分);
图8是用于描述产生随机图案的算法的示意图(第三部分);
图9A和9B是示出产生随机图案的方法的图像的示意图;
图10A和10B是示出在根据产生的图案所产生的电极区域中的孔形图案的分布的示图;
图11A至11C是示出在根据产生的图案在绝缘区域中产生沟槽图案的顺序的俯视图;
图12是示出沟槽图案的宽度的变化的俯视图;
图13A和13B是示出根据本发明的实施例在制造透明电极元件的第一方法中使用的原盘的构造的示图;
图14A和14B是示出根据本发明的实施例使用原盘来制造透明电极元件的第一方法的步骤的截面图;
图15A至15D是示出根据本发明的实施例制造透明电极元件的第二方法的截面图;
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