[发明专利]一种厚度均匀的钨酸铁超薄纳米片的结构控制制备有效

专利信息
申请号: 201210057168.7 申请日: 2012-03-02
公开(公告)号: CN102531062A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 孙嬿;李春生;王莉娜;马雪刚;王耀祖 申请(专利权)人: 河北联合大学
主分类号: C01G41/00 分类号: C01G41/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 063009 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 厚度 均匀 钨酸铁 超薄 纳米 结构 控制 制备
【权利要求书】:

1.本发明专利提供一种厚度均匀的钨酸铁超薄纳米片的结构控制制备,以钨酸钠和硫酸亚铁为起始原料,EDTA为金属离子螯合剂和结构诱导剂,蒸馏水为反应介质,应用微波辐射法制备钨酸铁超薄纳米片材料,具体工艺路线为:

第一、称量0.0825克钨酸钠(NaWO4·2H2O)固体,将其溶于10毫升蒸馏水中,配制钨酸钠溶液;

第二、称量0.0695克硫酸亚铁(FeSO4·7H2O)和0.0073克EDTA,加入10毫升蒸馏水配制混合溶液;

第三、将钨酸钠溶液与硫酸亚铁溶液混合,并高速搅拌10分钟;

第四、将第三步所述混合物置于微波辐射反应器中连续反应30分钟;

第五、待反应停止后,将所得沉淀用蒸馏水及乙醇溶液分别润洗2~3次,并于70℃恒温环境中干燥24小时,即可制备钨酸铁纳米片材料。

2.根据权利要求1所述一种厚度均匀的钨酸铁超薄纳米片的结构控制制备,其特征在于:所述钨酸铁材料经X射线衍射分析表明所得产物的物相为FeWO4,其为厚度均匀的二维超薄纳米片结构材料,具有厚度均匀、尺寸规整的特点,多片纳米片有序叠加,其中单层纳米片厚度仅为10~15纳米,直径为150~250纳米。

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