[发明专利]应用于半导体存储装置的逆止阀

权利要求书

1.一种晶圆盒，包括一盒体，在该盒体的一侧面形成一开口，及一门体，该门体与该开口相结合，并形成一容置空间，提供晶圆放置，其中该晶圆盒的特征在于：

在该盒体内配置至少一对逆止阀，每一该逆止阀包括一圆形柱及一逆止件，该圆形柱为一中空柱体，并将该逆止件嵌置在该圆形柱内，其中该逆止件包括：

一圆形穹顶体，具有一隆起顶端及一圆形底端；及

至少一条切割线，由该隆起顶端的中央处往该圆形底端延伸。

2.根据权利要求1所述的晶圆盒，其中该逆止阀的该圆形柱内，进一步配置一过滤膜。

3.根据权利要求1所述的晶圆盒，其中该对逆止阀是配置于该盒体的底部内。

4.根据权利要求1所述的晶圆盒，其中该对逆止阀为一抽逆止阀及一充逆止阀。

5.根据权利要求1所述的晶圆盒，其中该圆形穹顶体具有一厚度。

6.根据权利要求1所述的晶圆盒，其进一步包括一圆环，环绕于该圆形底端。

7.根据权利要求1所述的晶圆盒，其中该切割线为多条并两两相互对称。

8.根据权利要求1所述的晶圆盒，其中该逆止阀的材质为一弹性材质。

9.根据权利要求8所述的晶圆盒，其中该弹性材质为氟化橡胶、硅胶或橡胶。

10.一种掩膜盒，包括一上盖及一下盖，该上盖与该下盖相结合，并形成一容置空间，提供掩膜放置，其中该掩膜盒的特征在于：

在该掩膜盒内配置至少一对逆止阀，每一该逆止阀包括一圆形柱及一逆止件，该圆形柱为一中空柱体，并将该逆止件嵌置在该圆形柱内，其中该逆止件包括：

一圆形穹顶体，具有一隆起顶端及一圆形底端；及

至少一条切割线，由该隆起顶端的中央处往该圆形底端延伸。

11.根据权利要求10所述的掩膜盒，其中该逆止阀的该圆形柱内，进一步配置一过滤膜。

12.根据权利要求10所述的掩膜盒，其中该对逆止阀配置于该下盖的内。

13.根据权利要求10所述的掩膜盒，其中该对逆止阀为一抽逆止阀及一充逆止阀。

14.根据权利要求10所述的掩膜盒，其中该圆形穹顶体具有一厚度。

15.根据权利要求10所述的掩膜盒，其进一步包括一圆环，环绕于该圆形底端。

16.根据权利要求10所述的掩膜盒，其中该切割线为多条并两两相互对称。

17.根据权利要求10所述的掩膜盒，其中该逆止阀的材质为一弹性材质。

18.根据权利要求17所述的掩膜盒，其中该弹性材质为氟化橡胶、硅胶或橡胶。