[发明专利]基板浮起搬送方法、基板浮起搬送装置和基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及在浮起台上浮起搬送基板的基板浮起搬送方法和装置以及在浮起搬送中对基板实施所期望的处理的基板处理装置。

背景技术

例如，在平板显示器(FPD：Flat Panel Display)制造的光蚀刻工序中，使用通过一边在浮起台上浮起搬送被处理基板(例如玻璃基板)，一边使抗蚀剂液从设置于浮起台上方的长条形的喷嘴喷出，从基板上的一端至另一端涂敷抗蚀剂液的浮起搬送方式的抗蚀剂涂敷装置。

用于这样的浮起搬送方式的抗蚀剂涂敷装置的浮起台，从其上表面(浮起面)向垂直上方喷出高压的气体(通常为空气)，通过其高压气体的压力使基板以水平姿势浮起。而且，配置于浮起台的左右两侧的直线运动型的搬送部，将浮起在浮起台上的基板以能够安装拆卸的方式保持，并在浮起台的长边方向上搬送基板。

通常，浮起台的上表面(浮起面)，沿搬送方向划分为三个区域，具体是搬入区域、涂敷区域和搬出区域。涂敷区域在此是对基板上供给抗蚀剂液的区域，长条形抗蚀剂喷嘴配置于涂敷区域的中心部的上方。涂敷区域中的浮起高度规定抗蚀剂喷嘴的下端(排出口)与基板上表面(被处理面)之间的涂敷间隙。该涂敷间隙是左右抗蚀剂涂敷膜的膜厚和抗蚀剂消耗量的重要的参数，需要以较高的精度维持不变。根据该情况，在涂敷区域的浮起面也设置有多个混合存在于喷出高压气体的喷出口以负压吸入周围的气体(空气)的吸引口。而且，对通过基板的涂敷区域的部分，从喷出口施加因高压气体的垂直向上的力，同时从吸引口施加因负压吸引力的垂直向下的力，通过控制互相对抗的两个方向的力的平衡，以较大的浮起刚性稳定地保持规定的浮起高度(通常30～60μm)，当基板发生弯曲时，将其矫正为水平。另外，为了在涂敷区域中稳定地保持那样精密的浮起高度，例如也使用光学式的浮起高度传感器进行反馈控制。

对此，搬入区域是搬入基板和开始浮起搬送的区域，搬出区域是结束浮起搬送和搬出基板的区域。通常，搬入区域和搬出区域，以在一个表面上不设置吸引口而仅仅设置喷出口，浮起高度通常保持在200～2000μm的范围内的方式，使高压空气以基于开环路控制的一定的喷出压力从各喷出口喷出。

此外，这种浮起台的浮起高度，是基板的最下部与浮起台上表面(浮起面)之间的距离间隔。所以例如当沿矩形的基板的周缘部下降的方向时，其基板周缘部的下端与浮起台上表面(浮起面)之间的距离间隔为浮起高度。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2005-244155号公报

发明内容

发明想要解决的问题

在现有的这种的抗蚀剂涂敷装置中，以在浮起搬送中基板不摩擦浮起台(特别是搬入区域或者搬出区域)的浮起面的方式，以在被处理对象中设想的最难浮起的基板或者弯曲最大的基板为基准，较高设定高压气体的喷出压力。然而，根据该问题，当容易浮起且弯曲的少的基板被搬入到浮起台上时，高压气体的喷出压力变得过剩，存在过多消耗高压气体的问题。还有，当高压气体的喷出压力过剩时，存在搬入区域和搬出区域中的浮起高度超过最佳范围(200～2000μm)的问题。如果这样，涂敷区域侧的负担、即浮起刚性变强，保持精密浮起高度(30～60μm)的负担增大，即使在涂敷区域也具有高压气体和真空的用电消耗量增加的问题。

本发明解决上述那样的现有技术的问题，提供一种基板浮起搬送方法和基板浮起搬送装置，其使浮起台的基板的浮起高度和姿势最优化，并且改善浮起用高压气体的消耗效率。

还有，本发明提供改善涂敷处理的可靠性、可重复性和效率的基板处理装置。

用于解决课题的方法

本发明的基板浮起搬送方法，通过从浮起台的浮起面喷出的气体的压力使基板浮在空中，并将浮在空中的上述基板在上述浮起台上在水平方向上搬送，该基板浮起搬送方法的特征在于：将上述浮起台的浮起面划分为多个浮起区域，以根据上述基板的种类、属性或弯曲状态或上述基板的部位，使上述气体的喷出压力按各个上述浮起区域能够独立地变化，或者开启·关闭的方式进行控制。

另外，本发明的基板浮起搬送装置，包括：浮起台，具有被划分为多个浮起区域的浮起面，从上述浮起面喷出高压的气体，使基板浮在空中；送出高压气体的高压气体供给源；喷出压力控制部，设置于上述高压气体供给源与多个上述浮起区域之间，根据上述基板的种类、属性或者弯曲状态或者上述基板的部位，进行使高压气体的喷出压力按各个上述浮起区域能够独立地变化，或者开启·关闭控制；和基板搬送部，将浮在空中的上述基板以能够装卸的方式保持，并在上述浮起台上搬送。