[发明专利]栅长可调的标准单元版图设计方法及其装置有效
| 申请号： | 201210062312.6 | 申请日： | 2012-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN102663156A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 吴玉平;刘磊;陈天佐;吕志强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明;王宝筠 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 可调 标准 单元 版图 设计 方法 及其 装置 | ||
1.一种栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，包括：
提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅图形沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；
对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，以待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，对于每一条待调整的栅图形进行调整的步骤包括：
将栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及将在第一坐标轴中位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将在第一坐标轴中位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。
2.根据权利要求1所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整。
3.根据权利要求1所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，按照栅图形的第一坐标值依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，所有待调整的栅图形的待调整边为同一边。
5.根据权利要求1所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，对版图中的多条栅图形的栅长进行调整，从位于第一坐标轴中部的一条掩膜图形的位置为起点，同时对该起点两侧的待调整的栅图形进行调整，且其一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为一边，另一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为另一边。
6.一种栅长可调的标准单元版图设计装置，其特征在于，包括：
版图提供单元，用于提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；
栅长调整单元，用于对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，栅长调整单元包括：待调整的栅图形变动单元，用于将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及，其他掩膜图形调整单元，用于将位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。
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