[发明专利]惠斯登电桥交流LED器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210062656.7 申请日: 2012-03-09
公开(公告)号: CN102610626A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 肖德元;张汝京;宋天泰 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201306 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 惠斯登 电桥 交流 led 器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,包括如下步骤:

提供具有串联的LED的衬底;

对所述衬底进行切割,得到多个第一LED模块和第二LED模块,其中,每个第一LED模块和每个第二LED模块至少包括两个LED,所述第一LED模块和第二LED模块的数量比小于等于4∶1,所述第二LED模块的面积大于所述第一LED模块的面积;

将所述第一LED模块作为桥臂和所述第二LED模块作为中间臂封装成惠斯登电桥交流LED器件。

2.根据权利要求1所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于,还包括:对所述衬底进行切割之前,对所述串联的LED进行测试,并根据测试结果选择性的对所述串联的LED的衬底进行激光划片。

3.根据权利要求1所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于,通过如下工艺步骤形成具有串联的LED的衬底:

提供一衬底,在所述衬底上由下至上依次形成N型限制层、外延层和P型接触电极层;

制作至少九个贯穿P型接触电极层、外延层、N型限制层的隔离沟槽,以在衬底上方隔离出至少十个区域,每个区域对应一个LED;

在每个所述区域内制作一个与隔离沟槽相连通的N型接触电极台阶,所述N型接触电极台阶贯穿P型接触电极层、外延层;

在P型接触电极层、N型接触电极台阶的表面及隔离沟槽的内表面沉积隔离介质层;

通过光刻、刻蚀工艺去除与每个隔离沟槽紧邻的部分隔离介质层,分别暴露出部分P型接触电极层和部分N型限制层,在所暴露出的部分P型接触电极层、部分N型限制层和隔离沟槽内及隔离沟槽表面上沉积金属,一次制作出N电极、P电极和用于连接相邻LED的电极的互联金属层,形成具有串联LED的衬底。

4.根据权利要求3所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:形成具有串联的LED的衬底的工艺步骤后,还包括:减薄所述衬底。

5.根据权利要求3所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:在所述衬底上形成N型限制层之前,还包括:在所述衬底上形成氮化物缓冲层。

6.根据权利要求3所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:所述外延层包括多量子阱有源层和形成于多量子阱有源层上的P型限制层。

7.根据权利要求6所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:在所述N型限制层上形成所述外延层的步骤中,在形成P型限制层之前,还包括:沉积P型氮化物层。

8.根据权利要求3所述的惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:所述N型接触电极台贯穿P型接触电极层、外延层并延伸到部分N型限制层中。

9.根据权利要求3所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:所述N电极、P电极和互联金属层所使用的导电材料相同。

10.根据权利要求9所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:所述N电极、P电极和互联金属层的材料为镍金合金,或铬金合金。

11.根据权利要求1至10中任一项所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:采用板上晶片直装对所述第一LED模块和第二LED模块进行封装。

12.根据权利要求11中所述惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,其特征在于:形成惠斯登电桥交流LED器件之后,还包括:在所述惠斯登电桥交流LED器件上涂覆荧光粉硅胶。

13.一种根据权利要求1至12中任一项所述的惠斯登电桥交流LED器件的制造方法制得的惠斯登电桥交流LED器件,其特征在于,包括:

四个第一LED模块和一个第二LED模块,所述第一LED模块作为桥臂,所述第二LED模块作为中间臂,每个第一LED模块和每个第二LED模块分别包括至少两个LED,其中,所述第二LED模块的面积大于所述第一LED模块的面积。

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