[发明专利]一种可改善Moiré条纹的像素结构及像素检测方法

权利要求书

1.一种可改善Moiré条纹的像素结构，其特征在于，该像素结构包括：

多条扫描线，被设置为沿水平方向延伸；

多条数据线，被设置为沿竖直方向延伸，并且与所述多条扫描线相正交；以及

一第一遮黑区域和一第二遮黑区域，所述第一遮黑区域与所述第二遮黑区域相对设置，并且分别位于所述数据线的两侧；

其中，所述第一遮黑区域与所述第二遮黑区域在水平方向上交错排列。

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第一遮黑区域和所述第二遮黑区域均为黑矩阵。

3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该像素结构还包括一像素电极，设置于所述第一和第二遮黑区域之间。

4.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，该像素电极为一透明电极，并且所述透明电极采用ITO或ITZ材料制成。

5.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，所述像素电极呈“Z”型结构。

6.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素结构适用于一3D液晶面板。

7.一种可改善Moiré条纹的像素检测方法，其特征在于，该像素检测方法包括以下步骤：

a)检测藉由像素结构中的棱镜所看到的多个遮黑区；

b)计算所述多个遮黑区中的位置种类数目P以及所述多个遮黑区中位置种类之间的差异数目N；

c)根据上述位置种类数目P和差异数目N，调整所述像素结构的遮黑区位置；

d)重复上述步骤a)～c)，直至Moiré条纹达到液晶面板的预设规格。

8.根据权利要求7所述的像素检测方法，其特征在于，在上述步骤a之前，该像素检测方法还包括：

将分别位于数据线两侧的一遮黑区域和另一遮黑区域在水平方向上交错排列。

9.根据权利要求7所述的像素检测方法，其特征在于，所述位置种类数目P和差异数目N越小，Moiré条纹越轻微。

10.根据权利要求7所述的像素检测方法，其特征在于，所述位置种类数目P小于或等于5。