[发明专利]一种改进型终端结构的功率MOS器件及其制造方法

权利要求书

1.一种改进型终端结构的功率MOS器件，在所述功率MOS器件的俯视平面上，包括位于半导体基板中心区的元胞区及位于所述元胞区外圈的终端保护区，所述终端保护区环绕包围元胞区；在所述功率MOS器件的截面上，半导体基板具有相对应的第一主面与第二主面，所述第一主面与第二主面间包括第一导电类型漏极区及位于所述第一导电类型漏极区上方的第一导电类型外延层，第一导电类型外延层对应的表面形成第一主面，第一导电类型漏极区对应的表面形成第二主面；第一导电类型外延层内的上部设有第二导电类型阱层，所述第二导电类型阱层贯通元胞区及终端保护区；元胞区包括若干并联设置的元胞；其特征是： 

所述终端保护区有且仅有截止环，所述截止环采用沟槽结构；所述截止沟槽位于第二导电类型阱层内，深度伸入第二导电类型阱层下方的第一导电类型外延层内；截止沟槽内壁表面生长有绝缘栅氧化层，在所述生长有绝缘栅氧化层的截止沟槽内填充有导电多晶硅；截止沟槽内的上部设有第二欧姆接触孔，截止沟槽的外侧设有第一欧姆接触孔；终端保护区对应设置第一欧姆接触孔及第二欧姆接触孔外的区域均覆盖有绝缘介质层，第一欧姆接触孔及第二欧姆接触孔内均填充有第二金属层，第二金属层覆盖于相应的绝缘介质层上，且所述第二金属层将截止沟槽外侧的第二导电类型阱层与截止沟槽内的导电多晶硅连接成等电位。

2.根据权利要求1所述的改进型终端结构的功率MOS器件，其特征是：在所述功率MOS器件的截面上，所述终端保护区内对应截止沟槽外侧的第二导电类型阱层内设有第一导电类型注入区，第一导电类型注入区从第一主面向下延伸并位于第二导电类型阱层内的上部；第二金属层与第一导电类型注入区欧姆接触。

3.根据权利要求1所述的改进型终端结构的功率MOS器件，其特征是：在所述功率MOS器件的截面上，元胞区采用沟槽结构，所述元胞沟槽位于第二导电类型阱层，深度伸入第二导电类型阱层下方的第一导电类型外延层内；元胞沟槽内壁表面生长有绝缘栅氧化层，所述元胞沟槽内淀积有导电多晶硅，元胞沟槽的槽口由绝缘介质层覆盖；相邻元胞沟槽间相对应的外壁上方设有第一导电类型源极区，元胞区内的元胞通过元胞沟槽内的导电多晶硅并联成整体；相邻元胞沟槽间的侧上方均设置第三欧姆接触孔，所述第三欧姆接触孔从绝缘介质层表面向下延伸；元胞沟槽上方设置第一金属层，所述第一金属层填充在第三欧姆接触孔内，且第一金属层与元胞沟槽间的第一导电类型有源区及第二导电类型阱层欧姆接触。

4.根据权利要求1所述的改进型终端结构的功率MOS器件，其特征是：所述第一导电类型外延层包括第一导电类型第一外延层及第一导电类型第二外延层，第一导电类型第一外延层位于第一导电类型第二外延层与第一导电类型漏极区间，且第一导电类型第一外延层邻近第一导电类型漏极区及第一导电类型第二外延层；第二导电类型阱层位于第一导电类型第二外延层内的上部；元胞沟槽的深度伸入第一导电类型第二外延层或第一导电类型第一外延层内。

5.根据权利要求3所述的改进型终端结构的功率MOS器件，其特征是：所述第一金属层与第二金属层为同一制造层。