[发明专利]一种窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法

权利要求书

1.一种窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，该方法为：将具有通式I和通式II所示结构的噻吩类衍生物单体与Pd催化剂、配体以及碱溶于有机溶剂中，然后优选于80~150℃的温度条件下反应聚合，得到具有通式III所示结构的目标产物；

…式I，…式II，…式III，

其中：R₁至少选自直链或支链烷基酯基和直链或支链烷基羰基中的任意一种，R₂至少选自直链或支链烷氧基和直链或支链烷基中的任意一种，X为H或F原子，Y、Z至少选自卤素原子和H原子中的任意一种，但前提是：当Y为卤素时Z为H，而当Z为卤素时Y为H，n为重复单元数目，n≥1。

2.根据权利要求1所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述Pd催化剂至少选自Pd(OAc)₂、Pd(OAc)(o-tol)、Pd₂(dba)₃和Pd(PPh₃)Cl₂中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述配体至少选自PPh₃、PCy₃、P(o-methoxyphenyl)₃、P(o-tolyl)₃和P(m-tolyl)₃中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述的碱优选采用无机碱。

5.根据权利要求4所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述无机碱至少选自CsF、K₂CO₃、Cs₂CO₃和Ag₂CO₃中的任意一种。

6.根据权利要求1所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述有机溶剂至少选自四氢呋喃、甲苯、1,4-二氧六环、N,N-二甲基甲酰胺、氯苯中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，该方法中，聚合反应的时间优选为24~72h。

8.根据权利要求1所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，该方法中在聚合反应完成之后，还对混合反应物进行了常规后处理，其后将常规后处理所得产物依次以甲醇沉淀和索氏提取，得到目标产物；

所述常规处理包括依次进行的萃取、洗涤、干燥和减压除去溶剂的工序。

9.根据权利要求8所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述常规后处理具体为：将混合反应物经过二氯甲烷萃取后，收集有机相依次进行盐洗、水洗、干燥，而后减压除去溶剂。

10.根据权利要求8所述的窄带隙聚噻吩类衍生物的合成方法，其特征在于，所述的索氏提取法具体为：依次采用甲醇、正己烷、三氯甲烷对常规后处理所得产物进行提取，最终收集三氯甲烷组分，减压除去溶剂并真空干燥，得到目标产物。