[发明专利]在石墨盘中布局衬底的方法及石墨盘

权利要求书

1.一种在石墨盘中布局衬底的方法，其特征在于，包括：

提供主衬底和填充衬底，所述填充衬底的直径小于主衬底的直径；

按照最优布局在石墨盘中布局主衬底，所述最优布局为石墨盘中能够放置最多数目的主衬底所对应的布局；

在主衬底以外的石墨盘表面布局所述填充衬底，所述填充衬底将石墨盘的表面填满。

2.如权利要求1所述的在石墨盘中布局衬底的方法，其特征在于，所述主衬底布局于石墨盘的中部，所述填充衬底位于所述主衬底以外的石墨盘的边缘，所述主衬底和填充衬底关于石墨盘的中心呈对称排布。

3.如权利要求1所述的在石墨盘中布局衬底的方法，其特征在于，所述石墨盘的直径范围为16.5～19英寸，所述主衬底的直径为4英寸，所述填充衬底的直径为2英寸，所述主衬底的数目为12个，所述主衬底沿石墨盘的中心对称排布，其中石墨盘的中心布局有3个呈等边三角形排布的主衬底，所述填充衬底的数目为9个，分为3组填充于石墨盘的边缘。

4.如权利要求1所述的在石墨盘中布局衬底的方法，其特征在于，所述石墨盘的直径范围为16.5～19英寸，所述主衬底的直径为4英寸，所述填充衬底的直径为2英寸和1.5英寸，所述的主衬底的数目为12个，所述主衬底沿石墨盘的中心对称排布，其中石墨盘的中心布局3个主衬底呈等边三角形排布，直径为2英寸填充衬底的数目为9个，直径为1.5英寸填充衬底的数目为3个。

5.一种用于化学气相沉积工艺的石墨盘，其特征在于，所述石墨盘中布局有主衬底和填充衬底，所述主衬底的布局为石墨盘中能够放置最多数目的主衬底所对应的布局，所述填充衬底的直径小于主衬底的直径，所述填充衬底用于将石墨盘的表面填满。

6.如权利要求5所述的石墨盘，其特征在于，所述主衬底布局于石墨盘的中部，所述填充衬底位于所述主衬底以外的石墨盘的边缘，所述主衬底和填充衬底关于石墨盘的中心呈对称排布。

7.如权利要求5所述的石墨盘，其特征在于，所述石墨盘的直径范围为16.5～19英寸，所述主衬底的直径为4英寸，所述填充衬底的直径为2英寸，所述主衬底的数目为12个，所述主衬底沿石墨盘的中心对称排布，其中石墨盘的中心布局有3个呈等边三角形排布的主衬底，所述填充衬底的数目为9个，分为3组填充于石墨盘的边缘。

8.如权利要求5所述的石墨盘，其特征在于，所述石墨盘的直径范围为16.5～19英寸，所述主衬底的直径为4英寸，所述填充衬底的直径为2英寸和1.5英寸，所述的主衬底的数目为12个，所述主衬底沿石墨盘的中心对称排布，其中石墨盘的中心布局有3个呈等边三角形排布的主衬底，直径为2英寸填充衬底的数目为9个，直径为1.5英寸填充衬底的数目为3个。