[发明专利]光学元件、光学系统、摄像装置、光学仪器及母版无效
申请号: | 201210071897.8 | 申请日: | 2012-03-16 |
公开(公告)号: | CN102692658A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 林部和弥;村本穣;田泽洋志;梶谷俊一;野村优;远藤惣铭;马渕高志 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B5/02;G02B27/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 光学系统 摄像 装置 光学仪器 母版 | ||
1.一种光学系统,包括:
光学元件,所述光学元件具有形成有多个亚波长结构体的表面;以及
摄像装置,所述摄像装置具有用于感测经由所述光学元件的光的摄像区域,
其中,所述光学元件的所述表面具有散射入射光并且产生散射光的一个或两个以上区段,并且
其中,到达所述摄像区域的散射光的分量总和小于到达除所述摄像区域以外的区域的散射光的分量总和。
2.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述散射光的强度分布具有各向异性。
3.根据权利要求2所述的光学系统,其中,所述散射光的强度分布根据数值孔径NA而不同。
4.根据权利要求3所述的光学系统,其中,在数值孔径NA≤0.8范围内所述散射光的强度分布的每单位立体角的强度小于在数值孔径NA>0.8范围内所述散射光的强度分布的每单位立体角的强度。
5.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述摄像区域中的散射光的强度分布的最大值小于所述摄像区域外的区域中的散射光的强度分布的最大值。
6.根据权利要求1所述的光学系统,其中,所述多个亚波长结构体被布置为在所述光学元件的所述表面上形成多个行,并且
在所述区段中,所述行的节距P与参考节距P相比是变化的。
7.根据权利要求6所述的光学系统,其中,所述行的形状是线形或弧形。
8.根据权利要求7所述的光学系统,其中,所述多个亚波长结构体形成点阵图案,并且
其中所述点阵图案是六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案和准四方点阵图案中的至少一种。
9.根据权利要求6所述的光学系统,其中,所述摄像区域具有矩形形状,所述矩形形状具有彼此相对的两组边,并且
其中,所述行的方向平行于所述两组边中的一组边的延伸方向。
10.根据权利要求9所述的光学系统,其中,所述两组边包括一组彼此相对的短边和一组彼此相对的长边,并且
其中,所述行的方向平行于所述长边的延伸方向。
11.根据权利要求10所述的光学系统,其中,所述亚波长结构体是包括具有长轴和短轴的椭圆形的底面的锥体,并且
其中,所述底面的长轴的方向与所述行的方向一致。
12.一种包括权利要求1至11中任一项所述的光学系统的摄像装置。
13.一种包括权利要求1至11中任一项所述的光学系统的光学仪器。
14.一种光学元件,所述光学元件包括:
多个亚波长结构体,形成于所述光学元件的表面上,
其中,所述多个亚波长结构体形成点阵图案,
其中,所述多个亚波长结构体被配置为在所述表面上形成多行轨迹,
其中,所述表面散射一部分入射光,并且
其中,经散射的光的强度之和小于所述入射光的强度之和的1/500。
15.根据权利要求14所述的光学元件,其中,所述轨迹之间的轨迹节距Tp是变化的。
16.根据权利要求14所述的光学元件,其中,所述点阵图案是六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案和准四方点阵图案中的至少一种。
17.根据权利要求14所述的光学元件,其中,所述亚波长结构体是底面包括具有长轴和短轴的椭圆形的锥体,并且
其中,所述底面的长轴的方向与所述轨迹的延伸方向一致。
18.一种用于制造根据权利要求14至17中任一项所述的光学元件的母版。
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