[发明专利]用于增加光阻移除率之装置及等离子体灰化方法有效
| 申请号： | 201210073651.4 | 申请日： | 2005-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102610481A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | D·费利斯;P·哈摩;A·贝克内尔 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯技术公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵华伟;杨炯 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 增加 光阻移 装置 等离子体 灰化 方法 | ||
【权利要求书】：
1.处理室，其设置成用以接收等离子体，该处理室包含：
阻隔平板组件，其包含为平面之上方阻隔平板，其位于为平面之下方阻隔平板之上，该上方阻隔平板包含至少一热传导支座，其和该处理室之一壁热连通。
2.如权利要求第1项之处理室，其中该处理室之壁为水冷式。
3.如权利要求第1项之处理室，其中该上方阻隔平板由热传导材料所构成。
4.如权利要求第1项之处理室，其中该上方阻隔平板由铝所制成。
5.一种下游式等离子体灰化器，包含如权利要求第1项之处理室。
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