[发明专利]一种HDI板激光钻孔偏移检查方法无效
申请号: | 201210073889.7 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN102607368A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 陈雨兰;王晓萍 | 申请(专利权)人: | 昆山鼎鑫电子有限公司 |
主分类号: | G01B5/02 | 分类号: | G01B5/02 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;赵艳 |
地址: | 215316 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 hdi 激光 钻孔 偏移 检查 方法 | ||
1. 一种HDI板激光钻孔偏移检查方法,该方法用于检查HDI板上盲孔在激光开窗层与内层图形的偏移量,其特征在于:包括以下步骤:
(1)、在激光开窗层上标记激光开窗层对位图形,所述的激光开窗层对位图形标记有多个,多个所述的激光开窗层对位图形的边长或直径依次增大;
(2)、在内层上标记内层对位图形:所述的内层对位图形标记有多个,多个所述的内层对位图形的边长或直径相等,并且所述的内层对位图形与边长或直径最小的激光开窗层对位图形相同;
(3)、当目视HDI板上盲孔偏移量时,可从所述的激光开窗层对位图形与内层对位图形两者的偏移量得知:
当所述的内层对位图形位于所述的激光开窗层对位图形正中心时,则偏移量为0;
当所述的内层对位图形与激光开窗层对位图形相交时,则偏移量超出所述的内层对位图形与激光开窗层对位图形标记的设定值;
当所述的内层对位图形与激光开窗层对位图形相切时,则偏移量等于所述的内层对位图形与激光开窗层对位图形的边长或直径之差加制程蚀刻量之总和。
2. 根据权利要求1所述的一种HDI板激光钻孔偏移检查方法,其特征在于:在所述的激光开窗层对位图形、内层对位图形的首个图形位置处标记基准点,所述的激光开窗层对位图形以远离所述的基准点的方向,其边长或直径依次增大。
3. 根据权利要求1所述的一种HDI板激光钻孔偏移检查方法,其特征在于:所述的激光开窗层对位图形、内层对位图形为正方形。
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