[发明专利]低碳铜粒子无效
| 申请号： | 201210074745.3 | 申请日： | 2012-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN102756121A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 清水良宪;古本启太;箕轮光 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | B22F1/00 | 分类号： | B22F1/00;B22F9/24;H01B1/22 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低碳铜 粒子 | ||
1.一种低碳铜粒子，其特征在于，
碳含量低于0.01重量％，且磷含量低于0.01重量％，
用下式定义的变异系数CV值为10～35％，
所述低碳铜粒子为在表面的一部分具有非曲面部的大致球状，
CV值(％)＝(σ/D50)×100
式中，σ表示基于图像解析求出的粒子的粒径的标准偏差，D50表示基于图像解析求出的粒子的50％体积累积粒径。
2.一种低碳铜粒子的制造方法，其特征在于，具有还原工序，所述还原工序在不存在含碳化学种类和含磷化学种类的条件下，向包含铜化合物的水性液中添加还原剂来进行铜的还原，其中，所述碳化学种类不包括含碳铜化合物，
在存在2.1～8mol/L的对还原反应没有贡献的物质的条件下，通过还原生成铜粒子。
3.根据权利要求2所述的制造方法，其中，含有下述工序：
向包含铜化合物的水性液中添加碱性化合物而生成氧化铜，
将生成的氧化铜在第1还原工序中还原成氧化亚铜，
接着将氧化亚铜在第2还原工序中还原而生成铜粒子，
在第2还原工序中，在存在2.1～8mol/L的对还原反应没有贡献的物质的条件下，通过还原生成铜粒子。
4.根据权利要求3所述的制造方法，其中，
在第1还原工序后，不将氧化亚铜从溶液中分离而交付到第2还原工序，
并且在第1还原工序后且第2还原工序前，添加对还原反应没有贡献的物质，在对还原反应没有贡献的物质的总浓度为2.1～8mol/L的条件下，通过还原生成铜粒子。
5.根据权利要求3所述的制造方法，其中，
在第1还原工序后，将氧化亚铜从溶液中分离，
制备含有分离了的氧化亚铜并且含有对还原反应没有贡献的物质2.1～8mol/L的浆料，
将所制备的浆料交付到第2还原工序，通过还原生成铜粒子。
6.一种导电性糊，其特征在于，含有权利要求1所述的低碳铜粒子。
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