[发明专利]一种转移和清洗石墨烯薄膜的方法有效
申请号: | 201210075037.1 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN102583356A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 黄孟琼;王振中 | 申请(专利权)人: | 无锡第六元素高科技发展有限公司 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 陈慧珍 |
地址: | 214174 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 转移 清洗 石墨 薄膜 方法 | ||
1.一种转移和清洗石墨烯薄膜的方法,采用电化学方法剥离石墨烯薄膜,其特征在于,剥离得到石墨烯薄膜后,向所用电解液中加入润湿剂。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述润湿剂选自表面张力小并能与水混溶的溶剂、表面活性剂中的一种或至少两种的组合,优选为乙醇、丙二醇、甘油、聚乙二醇200-400、二甲基亚砜、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂中的一种或至少两种的组合,进一步优选为乙醇、甘油、十二烷基苯磺酸钠、苯乙酸月桂醇酯、聚二甲基硅氧烷类和二甲基硅油类中的一种或至少两种的组合;
优选地,以电解液的质量计,所述润湿剂的加入量为0.05-30wt%,优选0.05-10wt%,进一步优选0.05-5wt%。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)在生长于金属基体上的石墨烯薄膜的表面形成保护层;
(2)向电解液施加电压,将涂有保护层的石墨烯薄膜从金属基体上剥离;
(3)向步骤(2)所述电解液中加入润湿剂,得到涂有保护层的石墨烯薄膜;
(4)用清洗液清洗步骤(3)得到的涂有保护层的石墨烯薄膜;
(5)将步骤(4)得到的涂有保护层的石墨烯薄膜转移至目标基板上,烘烤;
(6)去除石墨烯薄膜表面的保护层;
(7)用掺杂剂对石墨烯薄膜进行掺杂。
4.根据权利要求1-3之一所述的方法,其特征在于,步骤(1)所述的保护层为聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙基丙烯酸甲酯、聚丙基丙烯酸甲酯、聚异丁基丙烯酸甲酯、聚二苯基硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺和天然橡胶中的一种或至少两种的组合。
5.根据权利要求1-4之一所述的方法,其特征在于,步骤(2)所述的电解液的电解质为强电解质和/或弱电解质中的一种或至少两种的组合,优选过硫酸铵、过硫酸钾和硝酸中的一种或至少两种的组合;所述电解液优选电解质的水溶液;
优选地,步骤(2)所述的电压为1V-60V,优选5V-15V。
6.根据权利要求1-5之一所述的方法,其特征在于,步骤(4)所述的清洗液为酸性溶液,所述酸性溶液含有酸、氧化剂、水;优选H2SO4-H2O2-H2O的组合,HNO3-H2O2-H2O的组合,HCl-HClO4-H2O的组合、HCl-H2O2-H2O的组合;进一步优选HCl-H2O2-H2O组成的酸性混合溶液;所述酸、氧化剂和水的体积比依次为1∶1∶30-1∶2∶8,优选1∶1∶28-1∶1∶8;
优选地,步骤(4)所述的清洗液为碱性溶液,所述碱性溶液含有碱、氧化剂、水;优选NH4OH-H2O2-H2O的组合,NaOH-H2O2-H2O的组合,KOH-H2O2-H2O的组合;进一步优选NH4OH-H2O2-H2O的碱性混合溶液;所述碱、氧化剂和水的体积比依次为1∶1∶40-1∶1∶5,优选1∶1∶10-1∶1∶30;
步骤(4)所述的清洗步骤为酸性溶液清洗和/或碱性溶液清洗,优选先进性酸性溶液清洗,后进行碱性溶液清洗。
7.根据权利要求1-6之一所述的方法,其特征在于,步骤(5)所述烘烤的温度为40℃-200℃,优选45℃-180℃,进一步优选80℃-180℃;所述烘烤时间大于20min,优选20min-2h,最优选40min-1h。
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