[发明专利]光扩散膜模版制备装置和光扩散膜模版的制备方法无效
申请号: | 201210079682.0 | 申请日: | 2012-03-23 |
公开(公告)号: | CN102540292A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 刘守;张向苏 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G02B27/46 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扩散 模版 制备 装置 方法 | ||
1.光扩散膜模版制备装置,其特征在于设有:
激光器,用于为系统提供光源;
空间滤波器,用于对激光器发出的光束进行扩束并滤波;
随机位相版,用于将激光束转变为漫射光;
调制版,与随机位相版配合,用于产生随机分布且大小适当的颗粒状激光散斑场;
全息记录介质,用于记录激光散斑场,形成浮雕状表面结构;
所述激光器、空间滤波器、随机位相版、调制版和全息记录介质依次排列。
2.如权利要求1所述的光扩散膜模版制备装置,其特征在于所述激光器的波长与全息记录介质的敏感波长一致,当全息记录介质为光刻胶时,激光波长为360~458nm。
3.如权利要求1所述的光扩散膜模版制备装置,其特征在于所述随机位相版采用毛玻璃或透明随机粗糙版。
4.如权利要求1所述的光扩散膜模版制备装置,其特征在于所述调制版采用透明并具有周期性结构分布的调制版,可选自光子晶体版或正交光栅版。
5.光扩散膜模版的制备方法,其特征在于采用如权利要求1~4中的一种光扩散膜模版制备装置,所述制备方法包括以下步骤:
1)采用与全息记录介质敏感波长一致的激光器;
2)将空间滤波器放置在激光束运行前方,使细小的激光束扩大到所需面积;
3)将随机位相版放置在扩大的激光束前方,把激光束转变为漫射光;
4)将调制版放置在漫射光的运行光路上,对漫射光做进一步调制,形成微小颗粒状激光散斑场;
5)采用能形成浮雕状表面结构的全息记录介质,放置在激光散斑场内,经曝光和化学处理后,在全息记录介质表面即制作出微小颗粒状结构,可作为光扩散膜模版。
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