[发明专利]真空蒸镀装置无效

专利信息
申请号: 201210080496.9 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102732839A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 野田武史 申请(专利权)人: 日立造船株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本大阪府大阪市*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 真空 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种真空蒸镀装置,该真空蒸镀装置例如用于使金属材料、有机材料等的蒸镀材料在负压下蒸镀于玻璃(glass)基板的表面。

背景技术

例如,使用有机电致发光(Electroluminescence,EL)材料的平板显示器(panel display)是通过使有机材料等的蒸镀材料蒸镀在玻璃基板等的被蒸镀构件上而形成。通常,在蒸发容器内对蒸镀材料进行加热以使其蒸发,将该蒸发后的蒸镀材料即蒸发材料导至真空容器内,并且放出至配置在该真空容器内的被蒸镀构件的表面,以进行蒸镀。

作为此种蒸镀方法(合成树脂覆膜的形成方法),提出有下述方法:在设为真空(负压)的处理室内,利用加热器对填充在蒸发用管(蒸发容器)内的原料单体(monomer)(蒸镀材料)进行加热以使其蒸发,并使该蒸发的蒸镀材料于配置在处理室内的上部的基板上聚合(参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开昭61-78463号公报

但是,在上述专利文献1所公开的蒸镀方法以及该方法中所用的装置中,填充在蒸发用管内的材料全部朝向基板,因此,如果该材料是使蒸镀材料溶解在溶剂中而成的材料,则该溶剂蒸发而成的蒸发溶剂会到达基板或基板附近的处理室内壁面而对他们造成污染。而且,在上述装置中,在处理室内的基板与蒸发用管之间虽设有闸板(shutter),但上述蒸发溶剂的一部分会绕过该闸板,因此无法确实地防止上述污染。由于此种污染的原因,存在形成于基板上的蒸镀膜的品质下降的问题。

发明内容

因此,本发明的目的在于提供一种真空蒸镀装置,通过从使蒸镀材料溶解在溶剂中而成的液体材料中确实地去除溶剂以进行蒸镀,从而能够防止因该溶剂造成的基板的污染,以获得高品质的蒸镀膜。

为了解决上述问题,本发明的技术方案1的真空蒸镀装置,使将蒸镀材料溶解在溶剂中而成的液体材料通过蒸发装置去除该溶剂后使其蒸发以作为蒸发材料,将该蒸发材料导至被保持在真空容器内的基板上以进行蒸镀,其中,

上述蒸发装置包括:蒸发容器,填充上述液体材料,并且形成有排出口,该排出口将由该液体材料的溶剂蒸发而成的蒸发溶剂予以排出;蒸发用加热器,对填充在该蒸发容器内的液体材料进行加热以使其蒸发;开闭阀,设在上述排出口;真空泵,经由该开闭阀而连接于上述排出口;以及流量调整阀,能够对从上述蒸发容器导向上述真空容器的蒸发材料的流量进行调整,

上述蒸发用加热器能够设定为至少两阶段的加热温度,上述两阶段的加热温度包括仅使上述溶剂蒸发且不会使上述蒸镀材料蒸发的第一温度与该使蒸镀材料蒸发的第二温度,

上述蒸发装置在将上述流量调整阀关闭,并且利用上述蒸发用加热器对填充在上述蒸发容器中的液体材料进行加热而使该液体材料达到上述第一温度后,将上述开闭阀打开并利用上述真空泵来抽吸该蒸发容器内的蒸发溶剂,从而能够从该液体材料去除溶剂。

而且,本发明的技术方案2的真空蒸镀装置是根据技术方案1所述的真空蒸镀装置,其中,蒸发装置的个数为多个,且上述真空蒸镀装置包括:分支形状的导管,连接上述各蒸发装置与真空容器,以将该各蒸发装置的蒸发材料导向真空容器内。

进而,本发明的技术方案3的真空蒸镀装置是根据技术方案1或技术方案2所述的真空蒸镀装置,其中,蒸发装置包括:传感器,对蒸发容器内的真空度进行计测。

(发明的效果)

根据上述真空蒸镀装置,通过利用真空泵来抽吸蒸发容器内的蒸发溶剂,从而从液体材料中去除溶剂,因此能够防止因蒸发溶剂造成的基板或真空容器内的污染,以获得高品质的蒸镀膜。

而且,通过流量调整阀,能够在维持真空容器的真空度的状态下使蒸发容器恢复大气压以再次填充蒸镀材料,因此能够提高蒸镀的作业效率。

附图说明

图1是本发明的实例1的真空蒸镀装置的整体剖视图。

图2是本发明的实例2的真空蒸镀装置的整体剖视图。

[符号的说明]

1、101:真空蒸镀装置

2、2A、2B:蒸发装置

3、103:导管

4:真空容器

5:加载互锁室

11:第1开闭阀

12:第2开闭阀

13:材料供给管

14:抽吸管

15:蒸发室用真空泵

16:流量调整阀

17:传感器

18:蒸发用加热器

20:蒸发容器

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