[发明专利]一种异质结型光电探测器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210081208.1 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102610672A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 蒋阳;吴翟;吕鹏;张玉刚;蓝新正;罗林保 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/0352;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 异质结型 光电 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种异质结型光电探测器,其特征是具有如下结构:

在硅基底(1)的表面覆有二氧化硅层(2),在二氧化硅层(2)的表面分散有平铺的碲化锌纳米带(4),在所述碲化锌纳米带(4)的两端分别设置有欧姆电极(3)作为输出一极,所述欧姆电极(3)与所述碲化锌纳米带(4)呈欧姆接触;在所述碲化锌纳米带(4)上交叠覆有石墨烯(5),所述石墨烯(5)位于两个欧姆电极(3)之间且与欧姆电极(3)隔离;在所述石墨烯(5)上设置有欧姆电极(6)作为另一输出极,所述欧姆电极(6)与所述石墨烯(5)呈欧姆接触且与碲化锌纳米带(4)和欧姆电极(3)隔离;

所述碲化锌纳米带(4)为P型碲化锌纳米带;所述石墨烯(5)为N型石墨烯;

所述欧姆电极(3)和欧姆电极(6)为金电极。

2.一种权利要求1所述的异质结型光电探测器的制备方法,其特征在于按如下步骤制备:

将碲化锌纳米带(4)分散到硅基底(1)表面的二氧化硅层(2)上,随后采用紫外光刻技术在二氧化硅层(2)上光刻出一对电极图案,然后利用电子束镀膜技术蒸镀得到一对欧姆电极(3),所述欧姆电极(3)与所述碲化锌纳米带(4)呈欧姆接触;将石墨烯(5)覆于二氧化硅层(2)的表面,利用紫外光刻技术在二氧化硅层(2)上光刻出与碲化锌纳米带(4)交叠且位于两个欧姆电极(3)之间并与欧姆电极(3)隔离的电极图案,然后利用氧等离子轰击除去电极图案以外的石墨烯得到石墨烯(5),再利用紫外光刻技术和电子束镀膜技术制备得到欧姆电极(6),所述欧姆电极(6)与石墨烯(5)形成欧姆接触且与碲化锌纳米带(4)和欧姆电极(3)隔离。

3.一种异质结型光电探测器,其特征是具有如下结构:

在硅基底(7)的表面覆有二氧化硅层(8),在二氧化硅层(8)的表面平铺有石墨烯(9),在石墨烯(9)上设置有绝缘层(10),在所述绝缘层(10)的表面分散有碲化锌纳米带(11)且所述碲化锌纳米带(11)的一部分与石墨烯(9)接触;在绝缘层(10)上设置有欧姆电极(12),所述欧姆电极(12)与碲化锌纳米带(11)呈欧姆接触;在石墨烯(9)上设置有欧姆电极(13),所述欧姆电极(13)与绝缘层(10)、欧姆电极(12)和碲化锌纳米带(11)隔离;

所述碲化锌纳米带(11)为P型碲化锌纳米带;所述石墨烯(9)为N型石墨烯;

所述欧姆电极(3)和欧姆电极(6)为金电极。

4.根据权利要求3所述的异质结型光电探测器,其特征在于:所述绝缘层(10)选自氮化硅、氧化哈、氧化锆、氧化铝或二氧化硅。

5.一种权利要求3或4所述的异质结型光电探测器的制备方法,其特征在于按如下步骤制备: 

将石墨烯(9)平铺到硅基底(7)表面的二氧化硅层(8)上,采用紫外光刻和磁控溅射镀膜技术在石墨烯(9)的表面制备绝缘层(10),将碲化锌纳米带(11)分散到绝缘层(10)上的边缘位置使所述碲化锌纳米带(11)有部分与石墨烯(9)交叠接触,利用紫外光刻技术和电子束镀膜技术在绝缘层(10)上制备欧姆电极(12),所述欧姆电极(12)与所述碲化锌纳米带(11)呈欧姆接触;再次利用紫外光刻技术和电子束镀膜技术在石墨烯(9)上制备欧姆电极(13),所述欧姆电极(13)与绝缘层(10)、欧姆电极(12)和碲化锌纳米带(11)隔离。 

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