[发明专利]Sr2CuO3+δ高温超导体单晶体及制备方法无效
申请号: | 201210081356.3 | 申请日: | 2012-03-26 |
公开(公告)号: | CN103361728A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 梁文 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C30B29/22 | 分类号: | C30B29/22;C30B1/12;G01N1/28 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | sr sub cuo 高温 超导体 单晶体 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及Sr2CuO3+δ(0<δ<1)高温超导体单晶体及其高温高压生长方法。
背景技术
根据已经报道的Sr2CuO3+δ粉末样品,其特点是具有简单结构(K2NiF4型)的p型超导体(仅包括铜氧面层和锶氧岩盐层),是研究[CuO2]平面超导机制的简单模型之一。
根据Sr2CuO3+δ粉末样品的TEM研究,观察到的调制结构,很可能是氧有序超结构引起的。但是,在Sr2CuO3+δ粉末样品中这种可能存在的氧有序超结构还没确定。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种高温超导体铜氧化物Sr2CuO3+δ单晶体,该单晶体能够研究铜氧化物超导体电性和磁性的各向异性,并且,通过单晶体XRD数据分析,可以研究Sr2CuO3+δ准二维结构以及可能存在的氧有序超结构,对其结构进行更加精确的表征。
本发明的另一目的在于提供该单晶体的制备方法。
为达到上述目的,本发明的技术解决方案为:
本发明提供了一种Sr2CuO3+δ高温超导体单晶体,该单晶体为四方结构,空间群为I4/mmm(no.139),
本发明还提供了一种Sr2CuO3+δ高温超导体单晶体的制备方法,即使用“两步法”在高温高压条件下,进行高氧压退火处理。
为了实现“两步法”的制备方法,主要包括的步骤如下:
在常压下,使用flux方法,制备Sr2CuO3高质量的单晶体;
解离Sr2CuO3晶体,挑选大小约1-4mm,厚度约100um-500um的小单晶片作为起始原料;
选用KClO4作为氧源,将KClO4粉末和Sr2CuO3小单晶片的混合物放入Φ4的金桶中,密封好;
使用NaCl作为传压介质,使用压片机将金桶压入NaCl盐柱中;
完成高压反应组装块的组装,在2-8GPa下,约700℃-1400℃进行高压实验,反应时间为1-5个小时;
高压完成后,打开金桶,使用有机溶剂(如[CH2-CH2-O]6的乙腈(CH3CN)溶液),将单晶体表面残留的KCl洗掉。
本发明的Sr2CuO3+δ单晶体具有层状的二维结构和明显的各向异性等物理性质,对高温超导机理研究具有重要物理意义。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明做进一步描述:
图1是本发明的Sr2CuO3+δ单晶体的结构示意图。
图2是本发明的Sr2CuO3+δ单晶体在30oe磁场下的磁化率和温度的关系曲线。
图3是本发明的Sr2CuO3+δ单晶体的电阻和温度的关系曲线。
图4是本发明的Sr2CuO3+δ单晶体衍射结构参数。
具体实施方式
实施例1使用高压高温的方法制备Sr2CuO3+δ单晶体。
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