[发明专利]水合硅抗菌剂的制备方法

权利要求书

1.水合硅抗菌剂的制备方法，其特征是包括以下步骤：

1)、载体制备，依次进行以下步骤：

①、原料制备：

以浓度为0.1～1M的稀硫酸和浓度为0.5～2M的稀水玻璃作为原料，所述稀硫酸和稀水玻璃均采用软水配制而成；

②、合成制备：

在稀水玻璃中分3次连续加入稀硫酸进行中和反应，所述稀硫酸的总量与稀水玻璃的体积比为1∶1.2～1.8，三次稀硫酸的加入工艺条件如下：

三次稀硫酸的用量依次占稀硫酸总量的20％～50％、1％-10％、40％-79％；

分别升温至20～50℃、60～75℃、80～90℃时，依次加入三次稀硫酸；3次加酸时间依次为20～50min、10～25min和20～75min；

③、后酸化：

将步骤②的所得物升温至95℃～98℃，加入浓度为0.1～1M的稀硫酸进行后酸化处理，直至溶液的PH为2～5时停止加入上述稀硫酸；然后于95～98℃搅拌老化10～50min；

④洗涤：

将步骤③所得的产物用软水反复漂洗至测得洗涤液的电导率为200～1000us·cm^-1；得湿滤饼；

2)、附载、老化：

将湿滤饼打浆，得浆料；于50～98℃，向所得的浆料中加入抗菌金属离子溶液，所述金属离子与浆料中的二氧化硅的摩尔比：1∶28～57；附载时间为50～120min；所述附载时间为加入抗菌金属离子溶液的时间；

抗菌金属离子溶液加入完毕后，保温老化10～30分钟；

3)、步骤2)所得的产物依次经过滤、干燥和粉碎后，得水合硅抗菌剂。

2.根据权利要求1所述的水合硅抗菌剂的制备方法，其特征是：所述步骤2)中的抗菌金属离子为Ag⁺、Cu²⁺和Zn²⁺的任意一种或者任意两种。

3.根据权利要求2所述的水合硅抗菌剂的制备方法，其特征是：所述步骤2)中的抗菌金属离子溶液为AgNO₃、Cu(NO₃)₂和Zn(NO₃)₂中的任意一种或者任意两种。

4.根据权利要求3所述的水合硅抗菌剂的制备方法，其特征是：所述步骤2)中的抗菌金属离子溶液的浓度为0.05M～1M。

5.根据权利要求2、3或4所述的任一水合硅抗菌剂的制备方法，其特征是：所述步骤3)中：

所述过滤为压滤，所得滤液可以重复使用于再次附载；

所述干燥为在100～200℃的温度下进行干燥；

所述粉碎为：使所得水合硅抗菌剂的粒度为0.5～15um。