[发明专利]绝缘电线及使用该绝缘电线的线圈有效
| 申请号： | 201210083603.3 | 申请日： | 2012-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN102855975B | 公开（公告）日： | 2017-06-06 |
| 发明（设计）人： | 本田佑树;锅岛秀太;牛渡刚真;阿部富也;菊池英行 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01B7/02 | 分类号： | H01B7/02;H01F5/00;H01F27/28 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 钟晶,於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 绝缘 电线 使用 线圈 | ||
【权利要求书】：
1.一种绝缘电线，其特征在于，是具备导体和在所述导体的周围设置的绝缘被覆层的绝缘电线，
所述绝缘被覆层具有：在所述导体的周围由分子中含有酰亚胺结构的树脂形成的第一绝缘皮膜，和在所述第一绝缘皮膜的周围由具有下述化学式1所表示的重复单元且酰亚胺浓度为15.7％以上、29.5％以下的聚酰亚胺树脂形成的第二绝缘皮膜，
化学式1
其中，R1是从芳香族四羧酸中除去了羧基的4价基团，R2是从芳香族二胺中除去了氨基的2价基团，
作为所述化学式1中R2的原料的芳香族二胺含有选自2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷(BAPP)、4,4’-双[4-(4-氨基苯氧基)联苯中的至少一种，作为R1的原料，使用均苯四甲酸酐、4,4’-氧双邻苯二甲酸二酐、2,2-双[4-(3,4-二羧酸苯氧基)苯基]丙烷二酐中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述的绝缘电线，所述第二绝缘皮膜的皮膜厚度相对于所述绝缘被覆层的整体厚度为80％以上且不足100％。
3.根据权利要求1或2所述的绝缘电线，所述第一绝缘皮膜由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酯酰亚胺中的任一者形成。
4.一种线圈，其特征在于，是使用权利要求1～3中任一项所述的绝缘电线来形成的。
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