[发明专利]一种栽培铁皮石斛的日光温室及铁皮石斛的栽培方法

权利要求书

1.一种栽培铁皮石斛的日光温室，其特征在于：所述日光温室为其内的地面高度比其外的地面高度低0.8-1.2m；所述日光温室的东、西、北三面均为墙，南面为采光面，所述北面墙的上端与采光面之间设有后屋面；所述采光面方位为向南偏东10-20°；以日光温室外的地面为参照，所述北面墙的高度为2.5-3.0m，所述日光温室的顶端高度为3.5-4.5m；所述北面墙的纵切面为梯形，其下端墙厚为3.5-4m，上端墙厚为2.0-2.5m；所述采光面分为透光区和不透光区，且所述透光区和不透光区相间分布；所述透光区宽度为1.8-2.5m，其与水平面的夹角为25-30°，所述透光区的顶端自上而下依次覆盖透光的保温塑膜、防虫纱网；所述不透光区宽度为0.8-1.0m，其与水平面的夹角为5-10°，所述不透光区的顶端覆盖不透光的保温材料；所述日光温室的后屋面与水平面成45°角；所述日光温室的东面墙或西面墙设一进出日光温室的缓冲间；在所述日光温室的采光面自上而下依次安装一层外遮阳网、一层保温被；在所述日光温室内的中部自上而下分别安装一层内遮阳网、一层保温幕；所述日光温室内吊挂若干喷雾装置和若干直流风机。

2.根据权利要求1所述的一种栽培铁皮石斛的日光温室，其特征在于：所述日光温室为其内的地面高度比其外的地面高度低1.0m；所述采光面方位为向南偏东10°；所述北面墙高度为2.5m，所述日光温室的顶端高度为4.1m；所述北面墙的下端墙厚为4m，上端墙厚为2.4m；所述日光温室内部的南北跨度为10.0m，由北向南依次通过八排的立柱将所述日光温室的采光面分为透光区和不透光区；所述八排的立柱以日光温室内地面为参照的高度由北向南依次为，一排立柱高度为4.3m，二排立柱高度为4.3m，三排立柱高度为4.2m，四排立柱高度为3.2m，五排立柱高度为3.1m，六排立柱高度为2.1m，七排立柱高度为2.0m，八排立柱高度为与日光温室外地面平齐；所述一排立柱与二排立柱之间的距离为2.4m，二排立柱与三排立柱、四排立柱与五排立柱、六排立柱与七排立柱之间的距离均为0.9m，所述三排立柱与四排立柱、五排立柱与六排立柱、七排立柱与八排立柱之间的距离均为2m；所述八排立柱由北向南两排立柱之间依次组成透光区和不透光区，所述透光区与水平面的夹角为27°；所述不透光区与水平面的夹角为5°。

3.根据权利要求2所述的一种栽培铁皮石斛的日光温室，其特征在于：所述采光面方位为向南偏东20°；所述立柱深入地下的距离均为0.6m。

4.根据权利要求1所述的一种栽培铁皮石斛的日光温室，其特征在于：所述外遮阳网为遮光率为70％的白色外遮阳网；所述内遮阳网为遮光率为50％的白色内遮阳网；所述防虫纱网为塑料的；所述保温幕为白色保温幕；所述墙为生土墙。

5.一种利用权利要求1-4任一项所述的栽培铁皮石斛的日光温室来栽培铁皮石斛的方法，其特征在于：

1)光照强度控制在3000-10000lux；

2)温度控制在5-32℃；

3)湿度控制在60-80％；

4)水的PH值控制在5.5-6.5，且通过喷雾装置进行勤喷雾、少淋透；

5)肥料为花多多1号20-20-20，其含有的成分是：全氮20％，其中铵态氮3.89％，硝态氮6.11％，尿素态氮10.00％，水溶性磷酐20％，水溶性钾20％，水溶性镁0.05％，硼0.0068％，铜0.0036％，铁0.05％，锰0.025％，钼0.0009％，锌0.0025％；将花多多1号20-20-20加水稀释到2000-3000倍，进行薄肥勤施；

6)基质采用水苔、松树皮、锯末、花生壳的混合物，且该混合物中水苔∶松树皮∶锯末∶花生壳的体积比为1∶1∶1∶1。

6.根据权利要求5所述的栽培铁皮石斛的方法，其特征在于：所述肥料的使用为对铁皮石斛的叶子进行喷雾施肥，在铁皮石斛的生长期3月-11月期间，每10天进行一次喷雾施肥，每次喷至叶面全湿为止。

7.根据权利要求5所述的栽培铁皮石斛的方法，其特征在于：所述光照强度的控制方法为：

冬季，在晴日上午9-10点钟左右，收卷所述保温被0.5-1小时后，打开内遮阳网；当光照比较强时，辅用外遮阳网；

春秋季，晨光0.5-1小时后，打开外遮阳网，当光照比较强时辅用内遮阳网和保温被；

夏季，卸去保温塑膜，晨光后，所述外遮阳网和内遮阳网配合使用，当光照比较强时，辅用所述保温被。