[发明专利]一种光学用聚酯膜及其制造方法有效
申请号: | 201210086703.1 | 申请日: | 2012-03-28 |
公开(公告)号: | CN102627014A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 金青松;王清;李昕;张宪锋;谭文倩 | 申请(专利权)人: | 上海凯鑫森产业投资控股有限公司 |
主分类号: | B32B27/36 | 分类号: | B32B27/36;B32B27/18;B32B7/10;B29C69/00;B29C47/06;B29C55/14 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 201100 上海市金*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 聚酯 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学用聚酯膜,该光学用聚酯膜依次由第一聚酯膜层、第二聚酯膜层、第三聚酯膜层和易粘结层组成,所述第一聚酯膜层包含粒径为纳米级的二氧化硅粒子,所述易粘结层由水溶性饱和聚酯树脂、水性聚氨酯树脂、水性聚异氰酸树脂和二氧化硅粒子组成。
2.根据权利要求1所述的光学用聚酯膜,其中,所述第一聚酯膜层中的二氧化硅粒子的粒径为5纳米~100纳米,所述第一聚酯膜层中的二氧化硅粒子的含量为1000毫克/千克~8000毫克/千克。
3.根据权利要求1所述的光学用聚酯膜,其中,以重量份为基准,所述水溶性饱和聚酯树脂3.6重量份~18重量份,水性聚氨酯树脂18重量份~95重量份,水性聚异氰酸树脂1.8重量份~9重量份,粒径为5纳米~80纳米的二氧化硅粒子0.21重量份~0.42重量份。
4.根据权利要求1所述的光学用聚酯膜,其中,所述易粘结层的厚度为0.01μm~0.1μm。
5.根据权利要求1所述的光学用聚酯膜,其中,所述易粘结层的折射率为1.57~1.60。
6.权利要求1-5任一项所述的光学用聚酯膜的制造方法,该方法包括以下步骤:
A、将包含粒径为纳米级的二氧化硅粒子的第一聚酯膜层原料、不包含二氧化硅粒子的第二聚酯膜层原料、不包含二氧化硅粒子的第三聚酯膜层原料送入相应的热融聚酯挤出机的共同挤出设备挤出到转动的冷却辊上得到由第一聚酯膜层、第二聚酯膜层和第三聚酯膜层组成的多层聚酯膜层;
B、将得到的所述多层聚酯膜层进行预热,纵向拉伸2倍~3.5倍;
C、在已纵向拉伸的所述多层聚酯膜层的第三聚酯膜层表面涂布易粘结层;
D、将涂好易粘结层的多层聚酯膜层进行预热,横向拉伸3倍~4倍,得到由第一聚酯膜层、第二聚酯膜层、第三聚酯膜层和易粘结层组成的所述光学用聚酯膜。
7.根据权利要求6所述的光学用聚酯膜的制造方法,其中,步骤A中热融聚酯挤出温度为260℃~300℃,冷却辊的温度为10℃~30℃。
8.根据权利要求6所述的光学用聚酯膜的制造方法,其中,步骤B中的纵向拉伸时的温度为80℃~120℃。
9.根据权利要求6所述的光学用聚酯膜的制造方法,其中,步骤C中的涂布易粘结层时的温度为70℃~110℃。
10.根据权利要求6所述的光学用聚酯膜的制造方法,其中,步骤D中的横向拉伸时的温度为120℃~130℃。
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