[发明专利]基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统无效
申请号: | 201210088169.8 | 申请日: | 2012-03-29 |
公开(公告)号: | CN102623882A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 晏虎;雷翔;刘文劲;董理治;王帅;杨平;许冰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | H01S3/10 | 分类号: | H01S3/10;H01S3/23;G02B27/09 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 压电 变形 板条 激光 光束 净化系统 | ||
1.基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,是,所述系统包括:
一板条激光器,发出长条形光束;在长条形光束光路上依次放置光束整形单元、倾斜镜、双压电片变形镜、分光镜、聚焦单元、起偏器、检偏器和二维成像器件;
一光束整形单元,将长条形光束整形成为准直的方形光束;
一倾斜镜和一双压电片变形镜,依次将准直的方形光束进行反射,得到反射的方形光束;
一分光镜,将反射的方形光束分为两束,其中输出一束反射光束作为净化的板条激光光束,输出另一束为透射光束;
一聚焦单元,对分光镜的透射光束进行聚焦,并输出聚焦的非线偏振光束;
一起偏器和一检偏器,位于聚焦单元和二维成像器件之间构成光强衰减系统,起偏器将聚焦单元聚焦后的非线偏振光束起偏成为线偏振光束;将位于支架上的检偏器沿线偏振光束入射的方向旋转,通过旋转检偏器的角度,用以调整出射偏振光束的能量;
一二维成像器件,位于聚焦单元的焦平面上,并且位于检偏器之后,二维成像器件用于对线偏振光的能量分布进行测量并得到透射光远场光强分布;
一控制计算机,通过数据采集卡和数据线与二维成像器件相连,接收并实时对二维成像器件测量得到的透射光远场光强分布进行计算,得到光束质量;控制计算机利用随机优化控制算法对光束质量进行计算并得到控制双压电片变形镜和倾斜镜的数字电压信号,并由控制计算机上的D/A卡对该数字电压信号进行数模转换后,得到模拟电压信号;
一高压放大器,其输入端与控制计算机的输出端连接,高压放大器的输出端通过数据线分别连接于倾斜镜和双压电片变形镜,接收并对模拟电压信号进行放大,并将得到放大的模拟电压信号送入倾斜镜和双压电片变形镜的驱动器,用于控制倾斜镜的倾斜角度和双压电片变形镜的镜面面形,完成对板条激光器输出光束波前畸变的补偿,达到提高净化的板条激光光束光束质量的目的。
2.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述的板条激光器使用的激光增益介质是板条结构的激光晶体或激光玻璃。
3.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述的光束整形单元将板条激光器输出光束整形为能覆盖双压电片变形镜镜面最佳校正区域的方形光束。
4.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述双压电片变形镜的镜面镀有针对输出激光束的高反射膜系。
5.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述的光束整形单元由柱面镜、球面镜、棱镜、柱面反射镜或球面反射镜中一种或多种的组合。
6.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述分光镜的前表面镀有高反膜、后表面镀有增透膜,分光镜的反射光束的光束质量与透射光束的光束质量一致。
7.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述聚焦单元起到聚焦光束的作用,是一个透镜,或是一个反射镜,或是多个透镜组合,或多个反射镜组合。
8.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,所述二维成像器件是CCD相机,或CMOS相机。
9.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,控制计算机使用的随机优化算法为遗传算法、蚁群算法、模拟退火算法或随机并行梯度下降算法中的一种。
10.根据权利要求1所述的基于双压电片变形镜的板条激光光束净化系统,其特征在于,检偏器是一个透射式线偏振片。
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