[发明专利]一种光场相位探测器的制作方法

权利要求书

1.一种光场相位探测器制作方法，其特征在于具体制作步骤如下：

(1)选择至少两根光纤，去除每根光纤进入近场光耦合区的光纤部分的保护层；

(2)将每根光纤的无保护层部分相互贴近，进行绞合，形成由光纤构成的螺旋形光纤束，并将绞合的光纤束放置在光纤拉锥机上，依据制备光纤分束器的流程，设置光纤分光比；

(3)光纤拉锥机对光纤束进行拉锥，同时监控光纤分光比，当光纤分光比稳定到所设置数值，在光纤未被拉断前停止拉锥；

(4)将已经相互熔接存在近场光耦合区的光纤束从光纤拉锥机上取出，利用机械式切割机或化学熔断法在近场光耦合区切断，制备成含有光纤束断面的近场光耦合区，将近场光耦合区作为光场相位探测器的近场光学探针；

(5)近场光耦合区被密闭在一个壳体中，与两维扫描器的移动部件相固定；近场光学探针一侧的壳体上开有光汇聚孔，迎接会聚光，另一侧所制得的光纤束的光输出端分别与近场光耦合区外的光电探测器连接。

2.根据权利要求1所述的一种光场相位探测器制作方法，其特征在于：所述的光纤分光比范围在1∶99到99∶1之间。