[发明专利]半导体开关绝缘保护装置以及电源组件有效

专利信息
申请号: 201210090899.1 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN102646648A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 潘丽锋;李鸿铭 申请(专利权)人: 台达电子企业管理(上海)有限公司
主分类号: H01L23/32 分类号: H01L23/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 施浩
地址: 201209 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 开关 绝缘 保护装置 以及 电源 组件
【权利要求书】:

1.一种半导体开关绝缘保护装置,包括一半导体开关,所述半导体开关具有一金属部件、一绝缘部件和一引脚,所述金属部件的正面安装于所述绝缘部件的背面,且在所述绝缘部件的上平面上方延伸出具有一第一高度的金属部分,所述的金属部分具有一第一孔,所述引脚安装于所述绝缘部件的下平面,其特征在于,还包括一绝缘保护盖,所述绝缘保护盖具有一本体,所述本体包含一第二孔和一边带,所述第二孔向所述本体的背面延伸形成具有一第二高度的孔柱,所述边带向所述本体的背面延伸形成具有一第三高度的侧壁,所述孔柱、所述侧壁与所述本体的背面形成一凹槽,将所述第一高度的金属部分放置在所述凹槽中。

2.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述绝缘保护盖安装于所述金属部件的正面,使得所述第一高度的金属部分完全被所述绝缘保护盖遮挡。

3.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述侧壁的第三高度与所述金属部件的厚度相等。

4.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述孔柱的第二高度大于所述金属部件的厚度。

5.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述侧壁向所述引脚方向延伸出一第一长度。

6.根据权利要求5所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述第一长度小于所述绝缘部件上平面与下平面之间的距离。

7.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述侧壁和所述孔柱均垂直于所述本体。

8.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述绝缘保护盖采用绝缘耐高温的材料。

9.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述绝缘保护盖的本体、孔柱和侧壁一体成型。

10.根据权利要求1所述的半导体开关绝缘保护装置,其特征在于,所述绝缘保护盖和所述半导体开关通过紧固件固定在非绝缘物体上。

11.一种电源组件,包括一散热装置、一半导体开关,所述半导体开关具有一金属部件、一绝缘部件和一引脚,所述金属部件的正面安装于所述绝缘部件的背面,且在所述绝缘部件的上平面上方延伸形成具有一第一高度的金属部分,所述金属部分具有一第一孔,所述引脚安装于所述绝缘部件的下平面,其特征在于,还包括一绝缘保护盖,所述绝缘保护盖具有一本体,所述本体包含一第二孔和一边带,所述第二孔向所述本体的背面延伸形成具有一第二高度的孔柱,所述边带向所述本体的背面延伸形成具有一第三高度的侧壁,所述孔柱、所述侧壁与所述本体的背面形成一凹槽,将所述第一高度的金属部分放置在所述凹槽中,通过紧固件将所述绝缘保护盖和所述半导体开关安装于所述散热装置上。

12.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述绝缘保护盖安装于所述金属部件的正面,使得所述第一高度的金属部分完全被所述绝缘保护盖遮挡。

13.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述金属部件的背面朝向所述散热装置。

14.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述侧壁的第三高度与所述金属部件的厚度相等。

15.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述孔柱的第二高度大于所述金属部件的厚度。

16.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述侧壁向所述引脚方向延伸出一第一长度。

17.根据权利要求16所述的电源组件,其特征在于,所述第一长度小于所述绝缘部件上平面与下平面之间的距离。

18.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述侧壁和所述孔柱均垂直于所述本体。

19.根据权利要求11所述的电源组件,其特征在于,所述绝缘保护盖采用绝缘耐高温的材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台达电子企业管理(上海)有限公司,未经台达电子企业管理(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210090899.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top