[发明专利]发光二极管元件有效

专利信息
申请号: 201210090921.2 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN103367384B 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 叶慧君 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/38;H01L33/62
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光二极管 元件
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种发光二极管元件,尤其是涉及一种具有高出光效率的阵列式发光二极管元件。

背景技术

发光二极管(LED)的发光原理和结构与传统光源并不相同,具有耗电量低、元件寿命长、无需暖灯时间、反应速度快等优点,再加上其体积小、耐震动、适合量产,容易配合应用需求制成极小或阵列式的元件,在市场上的应用颇为广泛。例如,光学显示装置、激光二极管、交通号志、数据存储装置、通讯装置、照明装置、以及医疗装置等。

现有的高压发光二极管元件1,如图1A与图1B所示,包含一透明基板10、多个发光二极管单元12以二维方向延伸,紧密排列形成于透明基板10上,每一个发光二极管单元的外延叠层120包含一第一半导体层121、一活性层122、以及一第二半导体层123。由于透明基板10不导电,因此于多个发光二极管单元外延叠层120之间由蚀刻形成沟槽14后可使各发光二极管单元12彼此绝缘,另外再通过部分蚀刻多个发光二极管单元外延叠层120至第一半导体层121以形成部分暴露区域。接着,再分别于相邻的发光二极管单元外延叠层120的第一半导体层121的暴露区域以及第二半导体层123上形成一导电配线结构19,包含第一电极18以及第二电极16。第一电极18与第二电极16分别各自又包含第一电极延伸部180与第二电极延伸部160,分别形成于相邻发光二极管单元外延叠层120的第一半导体层121与第二半导体层123之上,协助电流均匀分散流入半导体层中。通过导电配线结构19选择性连接于多个相邻的发光二极管单元12的第二半导体层123以及第一半导体层121,使得多个发光二极管单元12之间形成串联或并联的电路。其中,导电配线结构19下方可以是空气,也可以在形成导电配线结构19之前,预先在发光二极管单元12的外延层部分表面及相近的发光二极管单元12外延层间以化学气相沉积方式(CVD)、物理气相沉积方式(PVD)、溅镀(sputtering)等技术沉积形成绝缘层13,作为外延层的保护与相近发光二极管单元12间的电性绝缘。绝缘层13的材质较佳例如可以是氧化铝(Al2O3)、氧化硅(SiO2)、氮化铝(AlN)、氮化硅(SiNx)、二氧化钛(TiO2)、五氧化二钽(Tantalum pentoxide,Ta2O5)等材料或其复合组合。

然而,通过导电配线结构19进行发光二极管单元12间的电路连结时,由于发光二极管单元12与之间的沟槽14高低差距颇大,在形成导电配线结构19时容易产生导线连结不良或断线的问题,进而影响元件的良率。

此外,上述的发光二极管元件1还可以进一步地与其他元件组合连接以形成一发光装置(light-emitting apparatus)。图2为现有的发光装置结构示意图,如图2所示,一发光装置100包含一具有至少一电路101的次载体(sub-mount)110,将上述发光二极管元件1粘结固定于次载体110上;以及,一电连接结构104,以电连接发光元件1的第一电极衬垫16’、第二电极衬垫18’与次载体110上的电路101;其中,上述的次载体110可以是导线架(lead frame)或大尺寸镶嵌基底(mounting substrate),以方便发光装置100的电路规划并提高其散热效果。上述的电连接结构104可以是焊线(bonding wire)或其他连结结构。

发明内容

本发明的目的在于提供一种发光二极管元件,尤其是关于一种具有高出光效率的发光二极管元件。

为达上述目的,本发明的一实施例提供一种发光二极管元件,其包含一基板,具有一第一表面;多个发光二极管单元,形成在第一表面上,每一个发光二极管单元包含一第一半导体层、一第二半导体层,形成在第一半导体层上、以及一活性层,形成在第一半导体层与第二半导体层之间;以及多个导电配线结构,彼此完全分离,一端分别形成在第二半导体层上,直接接触第二半导体层,并通过第二半导体层彼此电性连结;其中,上述多个导电配线结构另一端分别形成在另一发光二极管单元上,直接接触另一发光二极管单元所包含的上述多个半导体层其中之一。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210090921.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top