[发明专利]一种金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器有效

专利信息
申请号: 201210092230.6 申请日: 2012-03-31
公开(公告)号: CN103367473A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 郭旭光;曹俊诚;张戎;张真真;谭智勇 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/0352;H01L31/101
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 微腔光 耦合 赫兹 量子 光子 探测器
【权利要求书】:

1.一种金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于,至少包括:

半导体衬底;

金属反射层,结合于所述半导体衬底;

多量子阱结构,包括结合于所述金属反射层的下电极、结合于所述下电极的GaAs/(Al,Ga)As量子阱叠层、以及结合于所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱叠层的上电极;金属光栅,结合于所述多量子阱结构,包括多个间隔排列的金属条;

所述金属光栅、多量子阱结构与金属反射层组成法布里-珀罗结构的金属共振微腔。

2.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属反射层的材料为Al、Cu、Au、Pt或其任意组合的合金。

3.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属光栅的周期为10~30μm,所述金属条的宽度为5~15μm。

4.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述多量子阱结构的厚度为2~10μm。

5.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱叠层中,所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱的数量为10~40个,所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱的宽度为10~20nm,所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱中Al的摩尔比为1%~5%。

6.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属光栅的厚度为0.2~0.8μm。

7.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述上、下电极均为n型掺杂的n-GaAs层,电子掺杂浓度为1.0×1017~5.0×1017/cm3

8.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属共振微腔为0级法布里-珀罗共振模,其中,所述金属光栅的周期为20μm,所述金属条的宽度为6.5μm,所述多量子阱结构的厚度为2μm。

9.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属共振微腔为1级法布里-珀罗共振模,其中,所述金属光栅的周期为20μm,所述金属条的宽度为8μm,所述多量子阱结构的厚度为6μm。

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