[发明专利]一种金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器有效
申请号: | 201210092230.6 | 申请日: | 2012-03-31 |
公开(公告)号: | CN103367473A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 郭旭光;曹俊诚;张戎;张真真;谭智勇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/0352;H01L31/101 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 微腔光 耦合 赫兹 量子 光子 探测器 | ||
1.一种金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于,至少包括:
半导体衬底;
金属反射层,结合于所述半导体衬底;
多量子阱结构,包括结合于所述金属反射层的下电极、结合于所述下电极的GaAs/(Al,Ga)As量子阱叠层、以及结合于所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱叠层的上电极;金属光栅,结合于所述多量子阱结构,包括多个间隔排列的金属条;
所述金属光栅、多量子阱结构与金属反射层组成法布里-珀罗结构的金属共振微腔。
2.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属反射层的材料为Al、Cu、Au、Pt或其任意组合的合金。
3.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属光栅的周期为10~30μm,所述金属条的宽度为5~15μm。
4.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述多量子阱结构的厚度为2~10μm。
5.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱叠层中,所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱的数量为10~40个,所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱的宽度为10~20nm,所述GaAs/(Al,Ga)As量子阱中Al的摩尔比为1%~5%。
6.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属光栅的厚度为0.2~0.8μm。
7.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述上、下电极均为n型掺杂的n-GaAs层,电子掺杂浓度为1.0×1017~5.0×1017/cm3。
8.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属共振微腔为0级法布里-珀罗共振模,其中,所述金属光栅的周期为20μm,所述金属条的宽度为6.5μm,所述多量子阱结构的厚度为2μm。
9.根据权利要求1所述的金属微腔光耦合太赫兹量子阱光子探测器,其特征在于:所述金属共振微腔为1级法布里-珀罗共振模,其中,所述金属光栅的周期为20μm,所述金属条的宽度为8μm,所述多量子阱结构的厚度为6μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210092230.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的