[发明专利]基于阵列旋转的综合孔径辐射计可见度相位误差校正方法有效

专利信息
申请号: 201210092674.X 申请日: 2012-03-31
公开(公告)号: CN102621532A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 李青侠;靳榕;沈尚宇;陈柯 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 基于 阵列 旋转 综合 孔径 辐射计 可见度 相位 误差 校正 方法
【权利要求书】:

1.基于阵列旋转的综合孔径辐射计可见度相位误差校正方法,包括以下步骤:

(1)对每根天线ap接收场景的微波热辐射信号放大、滤波、下变频和模数转换变换为数字信号,再将数字信号变换为数字复信号sp(t),其中t为离散时间变量;

(2)计算两两天线的可见度E[]表示求平均值,上标H表示共轭转置,p,q=1,...,N,N为天线总数;

(3)将天线阵列整体旋转180度,重复步骤(1)和(2)得到旋转后两两天线的可见度

(4)将相同天线对旋转前后的可见度相位相加,得到可见度与天线阵元相位误差的关系方程其中,分别表示的相位,αp,αq分别表示第p和第q天线阵元的相位误差;

(5)求解可见度与天线阵元相位误差的关系方程得到各天线阵元的相位误差

(6)依据求解得到的阵元相位误差计算相位误差校正后的可见度Vpqc=Vpqraw·exp[-j(α^p-α^q)].]]>

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