[发明专利]一种芍药无土促成栽培方法

权利要求书

1.一种芍药无土促成栽培方法，其包括苗盆准备，苗木准备，温度控制，湿度控制，光照控制和营养控制；其特征在于，所述的苗盆准备中先在苗盆底部铺入2-6厘米的炉渣，然后填装基质；所述的基质包括以下体积比的成分：草炭3-4，蛭石1-2，珍珠岩1-2。

2.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的温度控制中，在种植后的20天内，将温度控制在10-15℃；在种植20天后，将温度控制在18-25℃。

3.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的湿度控制中，在苗盆准备时，基质中的含水量为40-60％；在种植后的7天内，每日叶面喷水4-6次；种植7天后每隔一日喷水4-6次；整个栽培过程中空气湿度为75-85％。

4.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的光照控制中，在种植后，采用全光照，时间长度为11-15小时，强度为30000-50000lux；叶片完全伸展后，光照时间不变，光照强度减弱，为15000-25000lux。

5.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的营养控制中，所用的营养液包括以下质量比的成分：尿素3-5，磷酸二氢钾5-7，硫酸镁0.2-0.4，硫酸铜0.2-0.4，硫酸锌0.1-0.3，硫酸亚铁0.1-0.3，水5000；营养液每4天浇灌一次，每株的浇灌量为200-300ml。