[发明专利]在带电粒子仪器中保护辐射检测器的方法

权利要求书

1.一种在带电粒子射束设备中保护辐射检测器（151）的方法，所述设备包括用于产生带电粒子的射束的源（101）、包括用于照亮样本（111）的透镜（104）的聚光器系统、包括用于在检测器系统上形成放大的样本图像的透镜（106）的投影系统，所述检测器系统包括辐射检测器，所述方法包括：

·使用第一参数集合将所述检测器暴露于辐射的步骤（200），所述参数集合包括聚光透镜设置、投影透镜设置、带电粒子射束能量和射束电流，

·要求改变参数的步骤（204），

其特征在于，所述方法包括：

·在改变的参数下预测所述检测器将被暴露于的通量密度的步骤（206），这是在实现所述参数改变之前进行的，所述预测基于光学模型和/或查表，利用来自聚光透镜设置、投影透镜设置、带电粒子射束能量、射束电流的集合的一个或者多个输入变量作为输入，和

·比较所述预测的通量密度与预定数值的步骤（208），并且根据所述比较，或者

     o当所述预测的通量密度低于所述预定数值时实现所述参数改变，

或者

     o当所述预测的通量密度高于所述预定数值时避免将所述检测器暴露于与请求的参数改变相关联的通量密度。

2.根据权利要求1的方法，其中比较所述预测通量密度与预定数值的步骤（208）给出当所述预测通量密度超过所述预定数值时产生警告或者错误消息的步骤（214）。

3.根据权利要求1或者权利要求2的方法，其中检测器（151）是直接电子检测器，所述辐射包括电子并且所述通量密度是电流密度。

4.根据权利要求3的方法，其中检测器（151）被配备为检测通过样本（111）透射的电子。

5.根据前面权利要求中任何一项的方法，其中当产生错误消息或者警告时，所述透镜的激发和所述射束能量不被改变。

6.根据权利要求2-5中任何一项的方法，其中当产生错误消息或者警告时，所述射束被射束阻断器阻断。

7.根据前面权利要求中任何一项的方法，其中当改变所述参数时，所述射束被射束阻断器阻断。

8.根据前面权利要求中任何一项的方法，其中将检测器（151）暴露于超过所述预定数值的剂量对于所述检测器引起永久损坏。

9.根据权利要求3-7中任何一项的方法，其中检测器（151）配备有用于电子的直接检测的CMOS芯片或者CCD芯片。

10.根据前面权利要求中任何一项的方法，所述方法进一步包括，在使用第一参数集合将所述检测器暴露于辐射之前，通过对于不同的参数集合测量所述射束电流而校准所述光学模型和/或查表。

11.一种携带用于编程带电粒子射束设备的程序代码的软件载体，所述带电粒子射束设备包括用于执行根据权利要求1-10中任何一项的方法的可编程控制器。