[发明专利]包括氧化铝和/或含钛材料的CVD涂覆方案及其制造方法

权利要求书

1.一种涂覆体，包括：

一个基体，以及在基体上的一个涂覆方案，其中该涂覆方案包括：

一个由化学气相沉积涂覆的中间涂层区域，该中间涂层区域具有一个厚度以及包括铝和氧的一个第一构成组分以及包括钛、碳和氧的一个第二构成组分；

该第一构成组分以一个第一方式在一个最大值和一个最小值之间变化，并且该第二构成组分以一个第二方式在一个最大值和一个最小值之间变化，其中当该第一构成组分处于一个最大值时该第二构成组分处于一个最小值，而当该第二构成组分处于一个最大值时该第一构成组分处于一个最小值；以及

一个氮化钛基底涂层，该基底涂层是通过化学气相沉积涂覆至该基体上，并且该中间涂层区域比该基底涂层离该基体更远。

2.根据权利要求1所述的涂覆体，其中该涂覆方案进一步包括一个含钛/铝涂层，该含钛/铝涂层含有含钛/铝的颗粒，这些颗粒是通过化学气相沉积在一个选定的持续时间进行涂覆以便在一个预选定的粒径终止这些含钛/铝颗粒的生长，并且这些含钛/铝颗粒进一步含有氧和碳和氮中的一种或多种，并且该含钛/铝涂层比该中间涂层区域离该基体更远。

3.根据权利要求1所述的涂覆体，其中对于该中间涂层区域的至少一部分厚度，该第一构成组分和第二构成组分各自以一种周期性重复的方式变化。

4.根据权利要求1所述的涂覆体，其中对于该中间涂层区域的全部厚度，该第一构成组分和第二层构成组分各自以一种周期性重复的方式变化。

5.一种制造涂覆体的方法，包括以下步骤：

提供一个基体；

通过化学气相沉积将一个基底涂覆方案涂覆到该基体上；

通过化学气相沉积来涂覆一个第一顺序涂覆方案，该涂覆方案包括一个第一含钛涂层和一个第二含铝涂层；并且

通过化学气相沉积对该第一顺序涂覆方案涂覆一个第二顺序涂覆方案，该第二顺序涂覆方案包括一个第三含铝涂层和一个第四含钛涂层。

6.根据权利要求5所述的方法，其中该含钛涂层包括碳氮化钛并且该含铝涂层包括氧化铝。

7.根据权利要求5所述的方法，其中该第一顺序涂层和第二顺序涂层是在基本上相同的温度、压力和持续时间下进行涂覆。

8.根据权利要求5所述的方法，其中该第一顺序涂覆方案和该第二顺序涂覆方案的含钛涂层是在一个第一压力下进行涂覆，并且该第一顺序涂覆方案和该第二顺序涂覆方案的含铝涂层是在一个第二压力下进行涂覆，并且该第一压力大于该第二压力。

9.根据权利要求8所述的方法，其中该第一压力大于该第二压力至少四倍。

10.根据权利要求5所述的方法，进一步包括：

通过化学气相沉积向该第二顺序涂覆方案涂覆一个第三顺序涂覆方案，该第三顺序涂覆方案包括一个第五含钛涂层和一个第六含铝涂层；并且

通过化学气相沉积向该第三顺序涂覆方案涂覆一个第四顺序涂覆方案，该第四顺序涂覆方案包括一个第七含铝涂层和一个第八含钛涂层。

11.根据权利要求10所述的方法，进一步包括：

通过化学气相沉积向该第四顺序涂覆方案涂覆一个第五层顺序涂覆方案，该第五顺序涂覆方案包括一个第九含钛涂层和一个第十含铝涂层。