[发明专利]一种基于优化方向采样的自然图像抠图方法有效

专利信息
申请号: 201210102033.8 申请日: 2012-04-10
公开(公告)号: CN102651135A 公开(公告)日: 2012-08-29
发明(设计)人: 李宏亮;费炳超 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G06T7/60 分类号: G06T7/60
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 李明光
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 优化 方向 采样 自然 图像 方法
【权利要求书】:

1.一种基于优化方向采样的自然图像抠图方法,其特征在于,包括以下步骤:

初始化步骤:将图像划分为绝对背景区域、绝对前景区域以及未知区域;

优化方向采样步骤:对未知区域中的每个像素点进行优化方向采样,获得各像素点的前景和背景样本集合;

前景与背景像素值选取步骤:从未知区域各个像素的前景和背景样本集合中选择一对最优的样本对作为未知区域各个像素对应的前景像素估计值和背像素估计值;

未知区域像素点的掩膜值计算步骤:根据已知的未知区域像素点的像素值以及计算得到该像素点对应的前景像素估计值和背像素估计值,最终得到各未知区域像素点的掩膜值;

其中,优化方向采样步骤的具体实现方法是,获得各像素点的前景和背景样本的集合,具体方法为:未知区域内,计算以当前像素点i为中心点的像素块的像素值Pi在0,π/4,π/2,3π/4,π,5π/4,3π/2,7π/4这8个方向上的像素值的变化速度,沿着变化速度最慢的方向的垂直方向发射射线,采集该射线与前景轮廓线和背景轮廓线的交点分别为像素点i对应的第一前景样本点与第一背景样本点,再采集前景轮廓线和背景轮廓线上距离当前像素点i最近的像素点为第二前景样本点与第二背景样本点;在前景轮廓线上,在第一前景样本点两边稀疏地各采集一个像素点,在第二前景样本点两边稀疏地各采集一个像素点;在背景轮廓线上,在第一背景样本点两边稀疏地各采集一个像素点,在第二背景样本点两边稀疏地各采集一个像素点;将在前景轮廓线上采集到的六个像素点作为当前像素点i的前景样本集合,将在背景轮廓线上采集到的六个像素点作为当前像素点i的背景样本集合。

2.如权利要求1所述一种基于优化方向采样的自然图像抠图方法,其特征在于,前景与背景像素值计算步骤中,确定最优的样本对之后,对样本对中的前景像素值和背景像素值进行调整,调整方法如下:

确定以当前像素点为中心点的一个测量区域,提取该测量区域内每个像素点所对应的最优样本对,在提取出的所有样本对与当前像素点的像素值之间进行颜色距离测量,在所有颜色距离测量结果中选择最小的前几个样本对的前景样本点进行像素值的平均以及前几个样本对的背景样本点进行像素值的平均,前景样本点的像素值的平均结果与背景样本点的像素值的平均结果分别为调整后的当前像素点对应的前景像素估计值和背像素估计值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210102033.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top