[发明专利]一种用于光刻机的浸没控制装置有效
| 申请号： | 201210103398.2 | 申请日： | 2012-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN102621818A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 李金龙;胡松;赵立新;李兰兰;盛壮 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;顾炜 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 浸没 控制 装置 | ||
1.一种用于光刻机浸没控制装置，在光刻机的投影透镜组末端元件(1)和待刻硅片(3)间设置的该浸没控制装置(2)，其特征在于：所述的浸没控制装置(2)包括：盖板(5)、外构件(6)和内构件(7)，盖板(5)为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口(17)、出液口(20)、进气口(8)；外构件(6)为带有阶梯形状的环形板；内构件(7)为环形板，其外侧为阶梯形状，外构件(6)与内构件(7)的阶梯形状相配合，共同构成储气槽(9)和狭缝(10)，内侧为与投影透镜组末端元件(1)形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽(15)、环形均压槽(11)，内构件(7)的环形均压槽(11)内固定有弹性元件(12)，内构件(7)的出液下环槽内(15)固定有多孔介质(16)，其上部沿径向向外依次开有扇形槽(19)、注液孔(17)、出液上环槽(13)，其中出液上环槽(13)与出液下环槽(15)通过均布的通孔(14)连接；浸没液体(4)经注液口(17)、注液孔(18)进入扇形槽(19)，沿扇形槽(19)的边缘填充投影透镜组末端元件(1)和硅片(3)间的间隙；出液口(20)连接真空低压，当浸没液体流经多孔介质(16)时经出液下环槽(15)、通孔(14)进入出液上环槽，再被真空吸附经出液口(17)流出该浸没曝光装置(2)；外部加压气体经进气口(8)注入储气槽(9)，再经狭缝(10)进入该浸没控制装置(2)下表面和硅片(3)间的间隙形成边缘狭缝气密封。
2.根据权利要求1所述浸没控制装置，其特征在于：所述内构件(7)的扇形槽(19)角度为60°-120°。
3.根据权利要求1所述浸没控制装置，其特征在于：所述外构件(6)与内构件(7)与盖板(5)通过螺钉连接并采用O型圈进行气密封。
4.根据权利要求1所述浸没控制装置，其特征在于：所述外构件(6)的下表面与内构件(7)的下表面在同一水平面。
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