[发明专利]光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法

权利要求书

1.一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，该光掩模用基板的特征在于，

在四边形的所述第1主表面上的形成所述转印用图案的图案区域之外，在所述第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持所述光掩模时，保持部件与所述抵接面抵接，

关于所述保持区域，在设该保持区域内的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsx时的[Zsx/P]为平坦度指数Fsx，设该保持区域外的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zex时的[Zex/P]为平坦度指数Fex时，满足Fsx≤Fex，

其中，所述Zsx和Zex的单位是μm，所述P的单位是mm。

2.一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，该光掩模用基板的特征在于，

在四边形的所述第1主表面上的形成所述转印用图案的图案区域之外，在所述第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持所述光掩模时，保持部件与所述抵接面抵接，

关于所述保持区域，在设该保持区域内的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsx时的[Zsx/P]为平坦度指数Fsx时，满足Fsx≤0.08，

其中，所述Zsx的单位是μm，所述P的单位是mm。

3.根据权利要求1或2所述的光掩模用基板，其特征在于，

所述保持区域是所述第1主表面上的与所述两边平行的带状区域，所述带状区域分别被夹在与所述两边分别相隔10mm的直线和相隔50mm的直线之间。

4.根据权利要求1或2所述的光掩模用基板，其特征在于，

所述相隔距离P满足5mm≤P≤15mm。

5.一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，该光掩模用基板的特征在于，

在四边形的所述第1主表面上的形成所述转印用图案的图案区域之外，在所述第1主表面的相对的两边附近，具有保持区域，当曝光机保持所述光掩模时，保持部件与所述保持区域抵接，

关于所述保持区域，

在设该保持区域内的、处于与所述两边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsx时的[Zsx/P]为平坦度指数Fsx时，满足Fsx≤0.08，

并且，在设该保持区域内的、处于与所述两边平行的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsy时的[Zsy/P]为平坦度指数Fsy时，满足Fsy≤0.08，

其中，所述Zsx和Zsy的单位是μm，所述P的单位是mm。

6.根据权利要求1、2或5所述的光掩模用基板，其特征在于，

所述第1主表面为长方形，所述保持区域被设为在所述第1主平面上的所述图案区域之外的、所述第1主表面的相对的长边各自的附近，与所述长边平行的带状区域。

7.一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，该光掩模用基板的特征在于，

在四边形的所述第1主表面上的形成所述转印用图案的图案区域之外，在所述第1主表面的四边各自的附近具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持所述光掩模时，保持部件与所述抵接面抵接，

在所述保持区域中，针对各个该保持区域，在设该保持区域内的、处于与所述四边中附近的一边垂直的直线上的相隔P的任意两点的高低差是Zsa时的[Zsa/P]为平坦度指数Fsa时，满足Fsa≤0.08，并且，

所述保持区域分别是被夹在与附近的所述四边中的一边相隔10mm的直线和相隔50mm的直线之间的、与附近的所述四边中的一边平行的带状区域，

其中，所述Zsa的单位是μm，所述P的单位是mm。

8.根据权利要求1、2、5和7中的任意一项所述的光掩模用基板，其特征在于，

在所述透明基板的厚度为T时，所述第1主表面的所述保持区域内的平坦度指数Fsx满足Fsx≤(1/T)×3.0，

其中，所述T的单位是mm。

9.根据权利要求1、2和5中的任意一项所述的光掩模用基板，其特征在于，

不论在与所述两边垂直的方向上所述两点的位置如何，所述保持区域内的所述两点的高低的相互关系都不变。