[发明专利]高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法及应用方法无效

专利信息
申请号: 201210107599.X 申请日: 2012-04-13
公开(公告)号: CN102628808A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 罗先刚;高平;杨欢;赵泽宇;冯沁;陶兴;刘玲;刘凯鹏;杨磊磊 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 灵敏度 稳定性 表面 增强 芯片 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法,其特征在于:该方法的步骤如下:

步骤(1)在经清洗、亲水化处理后的1cm×1cm的双面精抛光石英基底表面均匀的自组装一层聚苯乙烯纳米球;所述聚苯乙烯纳米球直径为430nm;

步骤(2)采用反应离子刻蚀工艺对制作的纳米球自组装层进行刻蚀,改变纳米球的间隙的尺寸大小;所述反应离子刻蚀工艺中采用的刻蚀气体流量为20SCCM;所述反应离子刻蚀工艺中采用的刻蚀功率为5~8W;所述反应离子刻蚀工艺中采用的刻蚀时间为1 65s~240s;所述反应离子刻蚀工艺中采用的刻蚀气体为氧气;

步骤(3)利用刻蚀后的纳米球作为模具,利用真空镀膜机在2~3×10-4Pa的真空度下在其表面沉积一层50nm厚的银薄膜;

步骤(4)通过Lift off工艺去除纳米球自组装层,得到三角形银纳米阵列排布的表面增强拉曼芯片。

2.根据权利要求1所述的高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的自组装方式为旋涂法或静电自组装法或漂移法。

3.根据权利要求1所述的高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中银薄膜的沉积时间为13s。

4.根据权利要求1所述的高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)中的三角形银纳米阵列排布的表面增强拉曼芯片的结构周期为430nm,粒子直径为160nm,局域表面等离子体共振波长为780nm。

5.根据权利要求1~4任意一项所述的制备方法制备的高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的应用方法,其特征在于:所述高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片在用于检测溶液中的若丹明6G分子时,最低能够检测出溶液中10nM浓度的若丹明6G分子。

6.根据权利要求5所述的应用方法,其特征在于:以无水乙醇作为溶剂配置10nM浓度的若丹明6G溶液,将10微升浓度为10nM的若丹明6G溶液滴在该高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片上,待无水乙醇试剂挥发后做拉曼光谱分析。

7.根据权利要求1~4任意一项所述的制备方法制备的高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的应用方法,其特征在于:所述同一高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的7处不同位置处10μM浓度的若丹明6G分子的拉曼光谱曲线,其特征峰值强度的偏差为±3%。

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