[发明专利]亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法无效
| 申请号： | 201210107637.1 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102621604A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;刘凯鹏;赵泽宇;王长涛;高平;冯沁;刘玲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B3/06 | 分类号： | G02B3/06;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;顾炜 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微米 尺度 球面 或者 柱面 透镜 阵列 制备 方法 | ||
1.一种亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法，其特征步骤如下：
步骤(1)在基底上制备孔结构、或直线沟槽、或孔结构阵列、或直线沟槽阵列；
步骤(2)使用腐蚀液对基底进行各向同性湿法腐蚀；
步骤(3)控制湿法腐蚀的深度，得到预定的凹球面微透镜或凹球面微透镜阵列，或截面为圆弧形的柱型微透镜或截面为圆弧形的柱型微透镜阵列；
步骤(4)若以此凹球面微透镜、柱型微透镜为模具可以浇铸或压印得到凸球面微透镜阵列、凸的柱型微透镜。
2.根据权利要求1所述的亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中的基底为石英、玻璃或单晶硅材料。
3.根据权利要求1所述的亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，制备孔结构、直线沟槽或其阵列的方法可以为FIB、电子束直写、激光直写或光学曝光光刻。
4.根据权利要求1所述的亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中的对衬底进行湿法腐蚀时可以以恒定速度搅拌或不搅拌腐蚀液。
5.根据权利要求1所述的亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中，所述腐蚀液为氢氟酸或KOH溶液。
6.根据权利要求1所述的亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)和(4)中，所述球面微透镜阵列的深度小于或等于其口径的1/2。
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