[发明专利]一种尖劈型超透镜的制备方法

权利要求书

1.一种尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：该方法的步骤如下：

步骤(1)在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；

步骤(2)在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；

步骤(3)将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；

步骤(4)用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；

步骤(5)倾斜蒸镀金属/介质膜层交替组成的多层膜；

步骤(6)去除牺牲层和附着在牺牲层上的掩蔽层，得到位于紫外透明基底上的尖劈型超透镜。

2.根据权利要求1所述的尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中的紫外透明基底可以为石英、玻璃、蓝宝石或Si₃N₄基片，牺牲层为光刻胶、PMMA或其它有机材料，掩蔽层为铬、银、铜、钛、SiO2、Si、SiC或Si₃N₄膜层。

3.根据权利要求1所述的尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中曝光的方法为接触式曝光、接近式曝光或移动曝光。

4.根据权利要求1所述的尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中将直线结构刻蚀传递到掩蔽层的刻蚀方法为IBE、RIE或ICP。

5.根据权利要求1所述的尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：所述步骤(4)中对牺牲层进行各向同性刻蚀的刻蚀方法为RIE或湿法腐蚀，在刻蚀牺牲层时光刻胶会被全部刻蚀去除或刻蚀部分厚度。

6.根据权利要求1所述的尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：所述步骤(5)中的金属/介质膜层，金属膜层可以为银、金或金银合金，介质膜层为为SiO₂、Al₂O₃、SiC或Si₃N₄，蒸镀的方向与直线结构的方向垂直，并与基底法线的方向夹角为100-180度。

7.根据权利要求1所述的尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：所述步骤(6)中去除牺牲层、掩蔽层的方法为将基底置于丙酮、异丙醇或乙醇溶液中浸泡。