[发明专利]光学膜的制造方法、偏振片以及图像显示装置无效

专利信息
申请号: 201210111354.4 申请日: 2012-04-16
公开(公告)号: CN102749665A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 神崎昌;古谷勉;神野亨 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵曦;金世煜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 制造 方法 偏振 以及 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种光学膜的制造方法,其特征在于,包含如下工序:

涂布工序,在连续输送的基材膜上涂布含有活性能量射线固化性树脂的涂布液,形成涂布层;和

固化工序,在把铸模的表面推抵到所述涂布层的表面的状态下,从所述基材膜侧对所述涂布层照射活性能量射线,

在所述涂布工序中,以所述涂布层的前头区域中的所述涂布层的起始区所述固化工序后的膜厚不足4μm的方式涂布所述涂布液。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,

所述涂布工序中的所述涂布液的涂布通过与所述固化工序后的涂布层的膜厚相关地预先设定规定膜厚来进行,

在所述涂布工序中,以从所述涂布层的前头至达到所述预先设定的规定膜厚之间所述涂布层的膜厚持续增加的方式涂布所述涂布液。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,

当将距所述涂布层的起始区的结束部的沿所述基材膜的输送方向的距离设为L、将距离L中的所述固化工序后的所述涂布层的膜厚设为H(L)、将距离L中的膜厚增加的平均斜率设为ΔH(L)并以下述式(1)表示时,在所述涂布工序中,以L=10的ΔH(10)为0.0003以下的方式涂布所述涂布液,所述距离L和膜厚H(L)的单位为mm,

ΔH(L)={H(L)-H(0)}/L    (1)。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的方法,其中,

所述涂布工序中的所述涂布液的涂布通过使用模涂机并控制吐出到所述基材膜上的所述涂布液的压力来进行。

5.一种偏振片,其特征在于,具备偏光膜和通过权利要求1~4中任一项所述的方法制造的光学膜,

其中,所述光学膜以所述基材膜侧与所述偏光膜对置的方式层积在所述偏光膜上。

6.一种图像显示装置,其特征在于,具备权利要求5所述的偏振片和图像显示元件,

其中,所述偏振片以其偏光膜为所述图像显示元件侧的方式配置在所述图像显示元件上。

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