[发明专利]光学玻璃、压制成型用玻璃料和光学元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210115192.1 申请日: 2012-04-18
公开(公告)号: CN102745900B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 根岸智明 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C03C4/00 分类号: C03C4/00;C03C3/253;C03C3/155;C03C3/15;C03C3/145;C03C3/14;C03C3/068;C03C3/066
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学玻璃 压制 成型 玻璃 光学 元件 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学玻璃、由上述光学玻璃构成的压制成型用玻璃料和光学元件、以及使用上述压制成型用玻璃料的光学元件的制造方法。

背景技术

近年来,随着摄像装置的高功能化、小型化,高折射率玻璃制透镜的需要逐渐提高。作为这样的透镜材料,已知文献1、2中公开的光学玻璃等。

文献1:日本特开2009-120485号公报

文献2:日本特开2006-219365号公报

发明内容

但是,根据本发明人的研究,以文献1、2所述的光学玻璃为首的现有的高折射率玻璃存在以下制造方面的问题:因玻璃化转变温度高而不适合于精密压制成型;必须提高退火温度,因而促进了退火炉的消耗;液相温度高、制造稳定性缺乏;等等。

因此,为了解决现有问题,本发明的目的在于提供折射率高并且具有优异的制造适应性的光学玻璃、由上述光学玻璃构成的压制成型用玻璃料和光学元件、以及使用上述压制成型用玻璃料的光学元件的制造方法。

用于解决问题的方案

上述目的通过下述技术方案实现。

[1]一种光学玻璃,以阳离子%表示,其含有:

Si4+    0~30%、

B3+     15~60%、

Li+     0~10%、

Na+     0~10%、

K+      0~15%、

Mg2+    0~20%、

Ca2+    0~15%、

Sr2+    0~20%、

Ba2+    0~20%、

Zn2+    13~40%、

La3+    0~11%、

Gd3+    0~10%、

Y3+     0~6%、

Yb3+    0~6%、

Zr4+    0~5%、

Ti4+    0~7%、

Nb5+    2~20%、

Ta5+    0~5%、

W6+     0~10%、

Te4+    0~5%、

Ge4+    0~5%、

Bi3+    0~5%、

Al3+    0~5%;

该光学玻璃中,

Si4+和B3+的总含量为35~65%的范围,且B3+的含量与上述总含量之比(B3+/(Si4++B3+))为0.3~1的范围,

Li+、Na+和K+的总含量为0~20%的范围,

Zn2+的含量与Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+和Zn2+的总含量的阳离子比(Zn2+/(Mg2++Ca2++Sr2++Ba2++Zn2+))为0.30~1的范围,

La3+、Gd3+和Y3+的总含量为0~20%的范围,

Ti4+、Nb5+、Ta5+和W6+的总含量为10~20%的范围,

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