[发明专利]PET基材用UV硬化涂料组合物及其制备方法无效
申请号: | 201210115468.6 | 申请日: | 2012-04-18 |
公开(公告)号: | CN102643596A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 虞明东;袁慧雅;王锐涛;缪慧;韩莲 | 申请(专利权)人: | 上海维凯化学品有限公司;上海乘鹰新材料有限公司 |
主分类号: | C09D163/10 | 分类号: | C09D163/10;C09D175/14;C09D167/06;C09D7/12 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭国中 |
地址: | 201111 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | pet 基材 uv 硬化 涂料 组合 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及PET基材用涂料,尤其涉及一种PET基材用UV硬化涂料组合物及其制备方法。
背景技术
电子类产品、3C产品以及光学功能产品等在其使用过程中,表面易被刮伤,从而造成性能的下降或者视觉效果的下降。因此,此类产品表面必须进行保护。PET薄膜具有很好的透光率以及很轻的重量,非常适合作为保护层用于该类产品。为了防止PET表面被刮伤,最常用的方法是在PET表面涂布一层硬化层,以提高PET的表面硬度,从而提高其耐刮擦、耐磨性能。一般来说,该硬化层与PET基材的折射率是不同的,硬化层的折射率低于PET基材的折射率。二者折射率的不同会造成硬化层与PET基材之间明显的界面,从而导致该界面的反射光与硬化层表面的反射光发生干涉,在某个角度就会观察到这种干涉条纹,称为“彩虹纹”。彩虹纹的存在影响产品的视觉效果,从而限制产品的应用。
经对现有技术的文献检索发现,专利公开号是CN 101973149A,专利名称为一种减少模内装饰用透明硬化膜彩虹纹的方法,该专利中提供了一种通过控制涂布厚度的方法来控制硬涂层上下两界面反射光的光程差,使得反射光线相互干涉而相消,从而降低彩虹纹。该方法必须严格控制涂层的厚度,对于涂布工艺的依赖性太大,适用性不广。且涂膜的其它性能如硬度、柔韧等通过厚度可以调整的指标,其调整范围也受到限制。
专利公开号是CN 101973149A,专利名称为一种模内装饰用浅干涉纹透明硬化膜,该专利中提供了一种通过双层硬化结构来消除硬涂层与基材因折射率不同而产生的干涉条纹,即降低彩虹纹。该方法需要两次涂布及UV固化而实现,实施工艺繁琐复杂,且较高的涂布厚度也增加了成本。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术存在的不足,提供一种适用范围广泛,对涂布厚度等没有特殊要求、实施工艺简单,有效减少彩虹纹,视觉效果良好的PET基材用UV硬化涂料组合物及其制备方法。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
第一方面,本发明涉及一种PET基材用UV硬化涂料组合物,包括如下组份及重量份数:
高折射率单体 2~30份,
紫外光固化树脂 10~60份,
光引发剂 0.5~8份,
添加剂 0.01~0.5份,
溶剂 20~80份。
优选地,所述高折射率单体为折射率大于或等于1.55的含有紫外光固化基团的功能性单体。
优选地,所述紫外光固化树脂为环氧丙酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯中的一种或几种。
优选地,所述光引发剂为二苯甲酮、1-羟基-环己基-苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、异丙基硫杂蒽酮中的一种或几种。
优选地,所述添加剂为流平剂。
优选地,所述流平剂为聚醚改性有机硅、聚酯改性有机硅、聚二甲基硅氧烷、氟改性丙烯酸酯、丙烯酸酯共聚物中的一种或几种。
优选地,所述溶剂为丁酮、醋酸乙酯、醋酸丁酯、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮中的一种或几种。
第二方面,本发明还涉及一种制备前述的PET基材用UV硬化涂料组合物的方法,包括如下步骤:
a、将所述溶剂投入反应釜中,边搅拌边加入所述添加剂、光引发剂,搅拌至完全溶解;
b、再将所述紫外光固化树脂、高折射率单体投入反应釜中,搅拌至完全溶解后,停止搅拌;
c、再缓缓搅拌,过滤,即得所述PET基材用UV硬化涂料组合物。
优选地,所述步骤b中搅拌的时间为0.5~2.5小时。
优选地,所述步骤d中缓缓搅拌的时间为10~30分钟。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
1、本发明采用高折射单体,使得固化后硬化层与PET基材的折射率更为接近,从而降低彩虹纹,视觉效果良好;
2、本发明的硬化涂料适用范围广泛的涂布工艺,对涂布厚度等没有特殊要求;
3、耐磨、耐刮擦性能佳,同时具有较好的拉伸性能;
4、对大部分PET基材具有良好的附着力。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明,但不以任何形式限制本发明。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本发明的保护范围。
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