[发明专利]包括具有反射涂层的镜元件的投射物镜

权利要求书

1.一种光学系统，包括：

多个元件，布置用于将波长λ的辐射从物面中的物场成像到像面中的像场；

所述元件包括镜元件，该镜元件具有布置在辐射路径的由反射涂层形成的反射表面；

所述镜元件中的至少一个具有在一个或多个位置偏离最佳拟合旋转对称反射表面约λ以上的非旋转对称反射表面；

所述元件包括切趾校正元件，相对于不具有该切趾校正元件的光学系统，该切趾校正元件有效地校正该光学系统的出瞳中的空间强度分布，

其中，所述切趾校正元件是具有由反射涂层形成的反射面的镜元件，所述反射涂层设计为非旋转对称渐变涂层，该非旋转对称渐变涂层包括不同材料的多层叠层，所述不同材料的多层叠层形成多个双层，其中所述双层包括具有第一折射率的第一材料的相对厚的第一层和具有第二折射率的第二材料的相对薄的第二层，所述第二折射率高于所述第一折射率，所述多个双层具有几何层厚，该几何层厚在涂层的第一方向上根据第一渐变方程变化而在垂直于所述第一方向的第二方向上根据不同于所述第一渐变方程的第二渐变方程变化，所述第一层的厚度和第二层的厚度之间的厚度比实质上保持不变。

2.如权利要求1所述的光学系统，其中，相对于不具有该切趾校正元件的光学系统，所述切趾校正元件有效地增加所述出瞳中的空间强度分布的对称性。

3.如权利要求1或2所述的光学系统，其中，相比较不具有该切趾校正元件的相同光学系统，所述切趾校正元件有效地增加所述出瞳中的强度分布的旋转对称性。

4.如权利要求3所述的光学系统，其中，所述出瞳中的空间强度分布由表示所述出瞳的边缘中的强度的归一化方位变化的切趾参数APO表征，根据：

APO＝(I_MAX-I_MIN)/(I_MAX+I_MIN)

其中，I_MAX为所述出瞳的边缘区域中的强度的最大值，和I_MIN为所述出瞳的边缘区域中的强度的最小值，

其中所述切趾参数APO减少至少1％。

5.如权利要求1或2所述的光学系统，其中，当与不具有所述切趾元件的相同光学系统相比较时，所述切趾校正元件有效地增加相对所述光学系统的子午平面的所述出瞳中的强度分布的镜对称性。

6.如权利要求1或2所述的光学系统，其中，当与不具有所述切趾元件的相同光学系统相比较时，所述切趾校正元件有效地减少场依赖切趾。

7.如权利要求1或2所述的光学系统，其中，当与不具有所述切趾元件的相同光学系统相比较时，所述切趾校正元件有效地将所述出瞳中的强度分布的强度中心朝向所述出瞳的中心移动。

8.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述切趾校正元件包括在所述帽层的辐射入口侧上布置在所述帽层上的至少一个滤波层，其中所述滤波层由对波长λ的辐射进行吸收且具有空间变化的几何厚度的滤波层材料制成。

9.如权利要求8所述的光学系统，其中，所述滤波层由在波长λ具有比所述帽层材料大的吸收率的材料制成。

10.如权利要求8或9所述的光学系统，其中，所述滤波层由在波长λ具有比所述帽层材料小的吸收率的材料制成。

11.如权利要求8或9所述的光学系统，其中，所述滤波层由选自由钌、氧化铝、碳化硅、碳化钼、碳、氮化钛、二氧化钛和钌、氧化铝、氮化钛或二氧化钛和其他物质的混合物、合金或组合物构成的组的材料制成。

12.如权利要求1或2之一所述的光学系统，其中，所述切趾校正元件光学上布置在远离光学系统的光瞳面的位置，在该位置满足条件P(M)＜1，其中，

P(M)＝D(SA)/(D(SA)+D(CR))，

其中，D(SA)是在相应表面M上的源自物面上的场点的光束的子孔径的直径；和D(CR)是在该表面M上的在光学系统参考平面中所测量的通过光学系统成像的有效物场的主光线的最大距离。

13.如权利要求12所述的光学系统，其中，所述参考平面是光学系统的对称平面。

14.如权利要求12所述的光学系统，其中，对于所述切趾校正元件的位置，满足条件P(M)＜0.99。