[发明专利]用于热调节光刻设备的部份的热调节系统和热调节方法有效
申请号: | 201210116902.2 | 申请日: | 2012-04-19 |
公开(公告)号: | CN102749809A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | S·N·L·多恩德尔斯;V·Y·班尼恩;J·H·J·莫尔斯;M·C·M·维哈根;O·W·V·费里基恩斯;G·范冬克;H·J·范格尔纳 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;F25B29/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 调节 光刻 设备 部份 系统 方法 | ||
1.一种两相热调节系统,用于热调节光刻设备的部份,所述热调节系统包括:
蒸发器,所述蒸发器定位成与光刻设备的所述部份热接触,以通过蒸发器内的流体的蒸发来从所述部份提取热量;
冷凝器,所述冷凝器定位成与光刻设备的所述部份相距一距离,用于通过冷凝器内的流体的冷凝来从冷凝器内的流体去除热量;
流体管路,所述流体管路布置在所述蒸发器和所述冷凝器之间,用于形成流体能够在其中流动的回路;
泵,所述泵布置在所述回路中,以使流体在所述回路中循环;
储存器,所述储存器配置成保持流体,其中所述储存器与所述回路流体连通并且包括热交换器,所述热交换器从储存器内的流体传递热量或将热量传递至储存器内的流体;
温度传感器,所述温度传感器配置成提供表示流体的温度的测量信号;以及
控制器,配置成基于所述测量信号、通过调整所述热交换器传递至储存器内的流体的热量或者从储存器内的流体传递的热量,而将回路内的流体的温度保持为基本恒定。
2.根据权利要求1所述的热调节系统,其中,热调节是加热和/或冷却。
3.根据权利要求1或2所述的热调节系统,其中,所述储存器与所述回路的其中所有流体处于液相的部分流体连通。
4.根据权利要求1、2或3所述的热调节系统,其中,所述温度传感器布置在所述蒸发器的下游,用于提供表示离开所述蒸发器的流体的温度的测量信号。
5.根据权利要求1或2所述的热调节系统,包括加热器,用于将离开蒸发器的流体加热至流体沸点以上预定量的度数,其中所述控制器配置用于确定达到该流体温度所需的能量,并且其中所述控制器配置用于依赖于达到该温度所需的能量而调整所述泵。
6.根据权利要求1或2所述的热调节系统,其中,所述光刻设备的所述部份是被光刻设备的另一控制器主动控制的致动器,并且其中所述热调节系统的所述控制器被配置用于接收来自所述光刻设备的所述另一控制器的信息,以估计所述致动器内产生的热量,并且被配置依赖于所估计的热量来调整所述泵。
7.根据权利要求1或2所述的热调节系统,其中,所述储存器的热交换器被配置用于与回路中离开所述冷凝器上游处的蒸发器的流体交换热量。
8.根据权利要求1或2所述的热调节系统,其中,所述热调节系统被配置用于将回路中的流体保持处于-250至100摄氏度之间的温度、并且压力在1巴以上,使得流体的饱和温度大致等于回路内的流体的实际温度。
9.一种光刻设备,包括:
照射系统,配置成调节辐射束;
支撑件,构造成支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予辐射束,以形成图案化的辐射束;
衬底台,构造成保持衬底;
投影系统,配置成用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上;以及
根据权利要求1或2所述的热调节系统,用于热调节光刻设备的部份。
10.根据权利要求9所述的光刻设备,包括用于定位衬底台的定位系统,所述定位系统包括至少一个致动器,其中所述热调节系统被配置用于热调节所述至少一个致动器。
11.一种两相热调节系统,用于热调节光刻设备的部份,所述热调节系统包括:
蒸发器,所述蒸发器定位成与光刻设备的所述部份热接触,以通过蒸发器内的流体的蒸发来从所述部份提取热量;
冷凝器,所述冷凝器定位成与光刻设备的所述部份相距一距离,用于通过冷凝器内的流体的冷凝来从冷凝器内的流体去除热量;
流体管路,所述流体管路布置在所述蒸发器和所述冷凝器之间,用于形成流体能够在其中流动的回路;
泵,所述泵布置在所述回路中,以使流体在所述回路中循环;
旁路流体管路,所述旁路流体管路起始于回路中所述冷凝器与所述泵之间的一部位处,终止于回路中所述蒸发器与所述冷凝器之间的一部位处,优选尽可能得靠近蒸发器的出口;以及
第二泵,所述第二泵布置于所述旁路流体管路中。
12.根据权利要求11所述的热调节系统,其中,热调节是加热和/或冷却。
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