[发明专利]含氟氧亚烷基的聚合物组合物及其制造方法、含有聚合物组合物的表面处理剂及其应用有效

专利信息
申请号: 201210116976.6 申请日: 2012-04-19
公开(公告)号: CN102746635A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 山根祐治;山口浩一;小池则之 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C08L71/00 分类号: C08L71/00;C09D171/00;C09D183/12;G02B1/11;G06F3/041;C03C17/30
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 含氟氧亚 烷基 聚合物 组合 及其 制造 方法 含有 表面 处理 应用
【权利要求书】:

1.一种含氟氧亚烷基的聚合物组合物,含有下述式(1)所表示的含直链状氟氧亚烷基的聚合物及下述式(2)所表示的含直链状氟氧亚烷基的聚合物,其中所述式(1)所表示的含直链状氟氧亚烷基的聚合物以下称为单末端水解性聚合物,所述式(2)所表示的含直链状氟氧亚烷基的聚合物以下称为两末端水解性聚合物,

[化1]

式中,Rf基为-(CF2)d-(OC2F4)e(OCF2)f-O(CF2)d-,A为末端是-CF2H的一价的含氟基,Q为二价的有机基,Z为具有硅氧烷键的二价~八价的有机聚硅氧烷残基,R为碳数1~4的烷基或苯基,X为水解性基,a为2或3,b为1~7的整数,c为1~20的整数,α为0或1,d分别独立为0或1~5的整数,e为0~80的整数,f为0~80的整数,且e+f=5~100的整数,重复单元可以无规键合,

[化2]

式中,Rf、Q、Z、R、X、a、b、c、α与所述式(1)相同,

并且所述含氟氧亚烷基的聚合物组合物的特征在于:

相对于单末端水解性聚合物与两末端水解性聚合物的合计摩尔,两末端水解性聚合物的含量为0.1摩尔%以上、小于10摩尔%。

2.根据权利要求1所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物,其特征在于:进一步含有下述式(3)所表示的含氟氧亚烷基的聚合物,且所述式(3)所表示的含氟氧亚烷基的聚合物以下称为无官能性聚合物,

[化3]

A-Rf-A (3)

式中,Rf及A与上文所述相同,

并且相对于单末端水解性聚合物、两末端水解性聚合物及无官能性聚合物的合计摩尔,单末端水解性聚合物的比例为80摩尔%以上,且两末端水解性聚合物的比例为0.1摩尔%以上、小于10摩尔%。

3.根据权利要求2所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物,其特征在于:相对于单末端水解性聚合物、两末端水解性聚合物及无官能性聚合物的合计摩尔,无官能性聚合物的比例为1摩尔%~15摩尔%。

4.根据权利要求1或3所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物,其特征在于:Z为硅原子2个~5个的直链状或环状有机聚硅氧烷残基。

5.根据权利要求1或3所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物,其特征在于:Q为可含有选自由酰胺键、醚键、酯键及乙烯基键所组成的组群中的一个以上的键的未经取代或经取代的碳数2~12的烃基。

6.根据权利要求1或3所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物,其特征在于:水解性基X是选自由碳数1~10的烷氧基、碳数2~10的氧基烷氧基、碳数1~10的酰氧基、碳数2~10的烯氧基及卤素原子所组成的组群中。

7.一种表面处理剂,其特征在于:含有根据权利要求1至6中任一项所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物及/或含有该含氟氧亚烷基的聚合物组合物的部分水解缩合物的含氟氧亚烷基的聚合物组合物。

8.一种含氟氧亚烷基的聚合物组合物的制造方法,其特征在于:其为根据权利要求1至6中任一项所述的含氟氧亚烷基的聚合物组合物的制造方法,并且包含以下工序:对含有在单末端具有羧基且在另一末端具有羟基的含氟氧亚烷基的聚合物及在两末端具有羟基的含氟氧亚烷基的聚合物的混合物进行吸附处理及/或分子蒸馏处理,其中所述在单末端具有羧基且在另一末端具有羟基的含氟氧亚烷基的聚合物以下称为单末端含羧基的聚合物,所述在两末端具有羟基的含氟氧亚烷基的聚合物以下称为两末端含羟基的聚合物,

使混合物中的两末端含羟基的聚合物的含量相对于单末端含羧基的聚合物及两末端含羟基的聚合物的合计摩尔而为0.1摩尔%以上、小于10摩尔%。

9.一种物品,其特征在于:利用根据权利要求7所述的表面处理剂进行了处理。

10.一种光学物品,其特征在于:利用根据权利要求7所述的表面处理剂进行了处理。

11.一种触控面板显示器,其特征在于:利用根据权利要求7所述的表面处理剂进行了处理。

12.一种抗反射膜,其特征在于:利用根据权利要求7所述的表面处理剂进行了处理。

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