[发明专利]用于光刻设备的对准信号处理系统

权利要求书

1.一种用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，包括：信号采集模块、级次分离模块以及信号处理模块，所述信号采集模块采集全部级次的光学信号并将其转换为光强数据，所述级次分离模块用于对离散的光强数据进行级次分离，提取出各级次光强数据，所述信号处理模块根据所述各级次光强数据获得对准位置。

2.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，所述信号采集模块包括：

一光电转换单元，用于将光纤输入的光学信号转换为电学信号并放大；

一解调单元，用于对电学信号进行解调，输出模拟对准信号；

一A/D采样单元，用于对模拟对准信号离散采样，获得光强数据；

一位置采样单元，用于对工件台的位置进行采样，获得工件台位置数据。

3.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，所述信号处理模块包括：

一拟合计算单元，用于分别对获得的各级次光强数据与工件台位置数据进行拟合处理，获得模型的拟合参数，所述的各级次光强数据共用工件台位置数据；

一对准位置求解单元，用于根据拟合处理结果，求取对准位置。

4.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，所述级次分离模块为一固件模块。

5.如权利要求1所述的用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，所述级次分离模块采用带通滤波方法、小波分析法或傅里叶变换方法。

6.如权利要求5所述的用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，所述带通滤波器方法采用如下带通滤波器实现：

                       

式中，M为分子多项式阶数，（）为分子多项式各阶系数，N为分母多项式阶数，（）为分母多项式各阶系数，N也决定了滤波器的阶数，z为算子，H(z)称为N阶IIR滤波器函数。

7.如权利要求2所述的用于光刻设备的对准信号处理系统，其特征在于，所述位置采样单元与A/D采样单元通过同步信号保持采样同步。