[发明专利]硬质涂层及其形成方法有效
| 申请号： | 201210118716.2 | 申请日： | 2012-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN103184414B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 梁智勋;郑在仁 | 申请（专利权）人： | 浦项产业科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/06;B32B9/04 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人： | 周艳玲,罗正云 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硬质 涂层 及其 形成 方法 | ||
1.一种硬质涂层的形成方法，包括以下步骤：
洗涤基板；
在真空设备中安装经过洗涤的所述基板，并将所述真空设备的内部做成真空；
清洁所述基板；
在所述基板上以斜角形成斜角涂层；以及
在形成所述斜角涂层之后，施加偏压，以与所述基板垂直的方向在所述斜角涂层上形成垂直涂层。
2.根据权利要求1所述的硬质涂层的形成方法，
所述斜角涂层及所述垂直涂层为多层。
3.根据权利要求1所述的硬质涂层的形成方法，
所述斜角涂层的倾斜方向朝相反的方向改变两次以上。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的硬质涂层的形成方法，
所述斜角涂层及所述垂直涂层由氮化钛构成。
5.根据权利要求1至3中的任一项所述的硬质涂层的形成方法，
使用醇和丙酮对所述基板进行超声波洗涤。
6.根据权利要求1至3中的任一项所述的硬质涂层的形成方法，
所述真空设备内部的真空度为10-6torr以下。
7.根据权利要求1至3中的任一项所述的硬质涂层的形成方法，
在将氩气注入所述真空设备中，使得真空度达到2×10-2torr至2×10-4torr时执行所述斜角涂层及所述垂直涂层的形成。
8.根据权利要求1至3中的任一项所述的硬质涂层的形成方法，
所述斜角的大小为10～80°。
9.根据权利要求1至3中的任一项所述的硬质涂层的形成方法，
在200V以下的范围内施加所述偏压。
10.一种硬质涂层，形成有：斜角涂层，以与所述基板倾斜的方向形成在基板上；及垂直涂层，以与所述基板垂直的方向形成于所述斜角涂层上。
11.根据权利要求10所述的硬质涂层，
所述斜角涂层及所述垂直涂层为多层。
12.根据权利要求10或11所述的硬质涂层，
所述斜角涂层的倾斜方向朝相反的方向改变两次以上。
13.根据权利要求10或11所述的硬质涂层，
所述斜角涂层及所述垂直涂层由氮化钛构成。
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