[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

具有电介质窗的处理容器；

在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；

处理气体供给部，其向所述处理容器内供给期望的处理气体，以用于对所述基板实施期望的等离子体处理；

设置在所述电介质窗外的RF天线，其用于在所述处理容器内，通过感应结合生成处理气体的等离子体；和

高频供电部，其向所述RF天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力，

所述RF天线具有：分别在径向隔开间隔相对地配置在内侧和外侧，并在设置于所述高频供电部的高频传送路径上的第一节点和第二节点之间并联电连接的内侧线圈和外侧线圈，

在从所述第一节点到所述第二节点将各个高频分支传送路径一笔旋绕画成的情况下，使通过所述内侧线圈时的方向和通过所述外侧线圈时的方向在周向上相反，

在所述第一节点和所述第二节点之间，设置有与所述内侧线圈或所述外侧线圈中的任一个串联电连接的第一电容器。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述内侧线圈和所述外侧线圈中，分别流有在周向上方向相同的电流。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述内侧线圈和外侧线圈之间，在与所述第一电容器串联连接的线圈中流动的电流比在另一个线圈中流动的电流小。

4.如权利要求2或3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第一电容器具有比其与线圈产生串联共振的静电电容小的静电电容，所述线圈与所述第一电容器串联电连接。

5.如权利要求1～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第一电容器为可变电容器，通过改变其静电电容的值，控制在与所述第一电容器串联电连接的线圈中流动的电流的方向和电流量。

6.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于：

以在所述第一节点和所述第二节点之间不产生并联共振的方式，选择所述第一可变电容器的静电电容。

7.如权利要求1～6中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述第一节点与所述第二节点之间，设置有与所述内侧线圈或者所述外侧线圈中的任意的另一个串联电连接的第二电容器。

8.如权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第二电容器为可变电容器，通过改变其静电电容的值，控制在与所述第二电容器串联电连接的线圈中流动的电流的电流量。

9.如权利要求1～8中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述内侧线圈和所述外侧线圈同轴地配置。

10.如权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述内侧线圈和所述外侧线圈同心状地配置。

11.如权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述电介质窗形成所述处理容器的顶部，

所述内侧线圈和所述外侧线圈都搭载配置在所述电介质窗上。

12.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

具有电介质窗的处理容器；

在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；

处理气体供给部，其向所述处理容器内供给所期望的处理气体，以用于对所述基板实施期望的等离子体处理；

设置在所述电介质窗外的RF天线，其用于在所述处理容器内通过感应结合生成处理气体的等离子体；和

高频供电部，其向所述RF天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力，

所述RF天线具有：分别在径向隔开间隔相对地配置在内侧、中间和外侧，并在设置于所述高频供电部的高频传送路径上的第一节点和第二节点之间并联电连接的内侧线圈、中间线圈和外侧线圈，

在从所述第一节点到所述第二节点将各个高频分支传送路径一笔旋绕画成的情况下，使通过所述中间线圈时的方向与分别通过所述内侧线圈和所述外侧线圈时的方向在周向上相反，

在所述第一节点与所述第二节点之间设置有与所述中间线圈串联电连接的第一电容器。