[发明专利]一种用于曝光装置的掩模台有效
申请号: | 201210119643.9 | 申请日: | 2012-04-20 |
公开(公告)号: | CN103376667A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 江旭初 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 曝光 装置 掩模台 | ||
1.一种用于曝光装置的掩模台,其特征在于,包括:
机械预对准台,包括承版台、X向预对准机构和Y向预对准机构;所述承版台用于承载尺寸不同的至少两种掩模版;所述X向预对准机构包括设置在承版台X向相对两侧边缘的至少一对X向定位组件,所述每对X向定位组件中至少有一个是能够沿X向移动的,并且通过所述各对X向定位组件卡紧掩模版的X向相对两侧边,使掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准,实现掩模版的X向预对准;所述Y向预对准机构包括设置在承版台Y向相对两侧边缘的至少两对Y向定位组件,每一对Y向定位组件对应一种尺寸的掩模版,所述每对Y向定位组件中至少有一个是能够沿Y向移动的,并且通过所述一对Y向定位组件卡紧掩模版的Y向相对两侧边,使掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准,实现掩模版的Y向预对准;
驱动机构,包括设置于同一平面内的Y向粗动电机、X向微动电机,所述Y向粗动电机驱动所述机械预对准台沿Y向进行扫描移动,所述X向微动电机驱动机械预对准台沿X向移动,以实现X/Rz向的微调;
其中,X、Y向分别是水平面内相互垂直的两个方向,Rz向表示在XY平面内的旋转方向。
2.如权利要求1所述的掩模台,其特征在于,所述一对X向定位组件包括分别设置在承版台X向相对两侧边缘的X向定位销和X向定位杆;所述X向定位销的设置位置使得当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销上时,所述掩模版的X向中心与承版台的X向中心对准;所述X向定位杆在一第一X向驱动装置的驱动下能够沿X向移动,用于当掩模版X向的一侧边抵顶在X向定位销上时卡紧该掩模版X向的另一侧边。
3.如权利要求1所述的掩模台,其特征在于,所述Y向预对准机构对应于Y向尺寸最大的掩模版设有一对第一Y向定位组件,所述Y向预对准机构对应于其余尺寸的掩模版分别设有一对第二Y向定位组件。
4.如权利要求3所述的掩模台,其特征在于,所述一对第一Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向固定式定位销和Y向定位杆,所述Y向固定式定位销的设置位置使得当所述Y向尺寸最大的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上时,所述Y向尺寸最大的掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准;所述Y向定位杆在一Y向驱动装置的驱动下能够沿Y向移动,用于当Y向尺寸最大的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向固定式定位销上时卡紧所述Y向尺寸最大的掩模版Y向的另一侧边。
5.如权利要求3或4所述的掩模台,其特征在于,所述一对第二Y向定位组件包括分别设置在承版台Y向相对两侧边缘的Y向移动式定位销和Y向定位杆,当承版台承载有所述其余尺寸的掩模版时,所述Y向移动式定位销在一第二X向驱动装置的驱动下沿X向移动到一设置位置,所述设置位置使得当所述其余尺寸的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时,所述其余尺寸的掩模版的Y向中心与承版台的Y向中心对准;所述Y向定位杆在一Y向驱动装置的驱动下能够沿Y向移动,用于当所述其余尺寸的掩模版Y向的一侧边抵顶在Y向移动式定位销上时卡紧所述其余尺寸的掩模版Y向的另一侧边。
6.如权利要求5所述的掩模台,其特征在于,所述第一Y向定位组件和各所述第二Y向定位组件共用一个Y向定位杆。
7.如权利要求1所述的掩模台,其特征在于,所述掩模版通过真空吸附固定在承版台上。
8.如权利要求1所述的掩模台,其特征在于,所述掩模台还包括电机连接板,用于连接驱动机构和机械预对准台,使得驱动机构能够带动机械预对准台运动。
9.如权利要求1所述的掩模台,其特征在于,所述掩模台还包括设置在Y向粗动电机的两侧的垂向支撑机构,用于为所述机械预对准台的移动提供垂向支撑。
10.如权利要求9所述的掩模台,其特征在于,所述垂向支撑机构为气浮垫。
11.如权利要求1所述的掩模台,其特征在于,所述Y向粗动电机和所述X向微动电机各有两个,所述两个Y向粗动电机分布在承版台的两侧,所述两个微动电机沿Y向设置在承版台的一侧。
12.如权利要求11所述的掩模台,其特征在于,分布在同一侧的Y向粗动电机和两个X向微动电机是一体式结构。
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