[发明专利]一种光学窗口材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210120906.8 申请日: 2012-04-23
公开(公告)号: CN102633444A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 石峰;姜超 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C03C17/42 分类号: C03C17/42;C04B41/52
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 窗口 材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于超分子相互作用的光学窗口材料的制备方法,其特征在于,结合超声技术或旋涂和交替层状自组装技术,具体包括以下步骤:

1)、将石英片或硅片用洗液清洗,再用去离子水清洗石英片、硅片,用氮气吹干;

2)、将步骤1)中所得的基底置于高分子溶液A中,静置,达到饱和后取出,用相应溶剂冲洗,室温下氮气干燥;

3)、将步骤2)中所得的基底置于纳米粒子溶液B中,超声条件下浸泡,达到饱和后取出,用相应溶剂冲洗,室温下氮气干燥;

4)、交替重复步骤2)和步骤3),直至基底表面组装上所需层数的高分子/纳米粒子复合薄膜;

所述高分子溶液A为聚乙烯亚胺溶液,所用纳米粒子溶液B为氧化铟锡纳米粒子溶液。

2.按照权利要求1的方法,其特征在于,所述高分子溶液A,其浓度为0.5-30mg/mL,所用纳米粒子溶液B,其浓度为1.0-5.0mg/mL。

3.按照权利要求1的方法,其特征在于,洗液为浓硫酸和双氧水混合溶液,体积比为8∶3-6∶4均可。

4.一种基于超分子相互作用的光学窗口材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)、将石英片或硅片基底用洗液清洗,再用去离子水清洗石英片、硅片,用氮气吹干;

2)、在步骤1)中所得的基底上,旋转涂覆高分子溶液A,再旋转涂覆相应溶剂至少2次;

3)、在步骤2)中所得的基底上,旋转涂覆纳米粒子溶液C进行自组装,再 旋转涂覆相应溶剂,洗去多余的物理吸附的纳米粒子;

4)、交替重复步骤2)和步骤3)多次,直至基底表面组装上所需层数的高分子/纳米粒子复合薄膜,取出,得到的即为光学窗口材料;

所述高分子溶液A为聚乙烯亚胺溶液,所述的纳米粒子溶液C为氧化锌纳米粒子溶液;

上述方法,是在基底的一侧进行自组装,或者分别在两侧同时进行自组装。

5.按照权利要求4的方法,其特征在于,所述高分子溶液A其浓度为0.5-30mg/mL;所述的纳米粒子溶液C其浓度为1.0-5.0mg/mL。

6.按照权利要求4的方法,其特征在于,洗液为浓硫酸和双氧水混合溶液,体积比为8∶3-6∶4均可。

7.一种基于超分子相互作用的光学窗口材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)、将石英片或硅片用洗液清洗,再用去离子水清洗石英片、硅片,用氮气吹干;

2)、将步骤1)中所得的基底置于高分子溶液A中,静置,达到饱和后取出,用相应溶剂冲洗,室温下氮气干燥;

3)、将步骤2)中所得的基底置于纳米粒子溶液B中,超声条件下浸泡,达到饱和后取出,用相应溶剂冲洗,室温下氮气干燥;

4)、交替重复步骤2)和步骤3),直至基底表面组装上所需层数的高分子/纳米粒子复合薄膜;

5)、用浓硫酸清洗步骤4)中得到的基底的一侧a,清洗掉组装的复合薄膜,用去离子水清洗,室温下氮气干燥;

6)、在步骤5)中所得的基底的a侧,旋转涂覆高分子溶液A,再旋转涂覆相 应溶剂至少2次;

7)、在步骤6)中所得的基底的a侧,旋转涂覆纳米粒子溶液C进行自组装,再旋转涂覆相应溶剂,洗去多余的物理吸附的纳米粒子;

8)、交替重复步骤6)和步骤7)多次,直至基底表面组装上所需层数的高分子/纳米粒子复合薄膜,取出,得到的即为光学窗口材料;

9)、通过控制步骤4)和步骤8)的重复次数,调节得到的得到光学窗口材料;

所述高分子溶液A为聚乙烯亚胺溶液;所用纳米粒子溶液B为氧化铟锡纳米粒子溶液;所述的纳米粒子溶液C为氧化锌纳米粒子溶液。

8.按照权利要求1的方法,其特征在于,所述高分子溶液A其浓度为0.5-30mg/mL;所用纳米粒子溶液B浓度为1.0-5.0mg/mL;所述的纳米粒子溶液C浓度为1.0-5.0mg/mL。

9.洗液为浓硫酸和双氧水混合溶液,体积比为8∶3-6∶4均可。 

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